[发明专利]基于同位素或其二级质谱离子同位素丰度分布的质谱定量分析方法在审
申请号: | 202011229273.5 | 申请日: | 2020-11-06 |
公开(公告)号: | CN112326851A | 公开(公告)日: | 2021-02-05 |
发明(设计)人: | 刘斌 | 申请(专利权)人: | 刘斌 |
主分类号: | G01N30/06 | 分类号: | G01N30/06;G01N30/72;G01N30/88 |
代理公司: | 长春众益专利商标事务所(普通合伙) 22211 | 代理人: | 赵正 |
地址: | 130000*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 同位素 二级 离子 分布 定量分析 方法 | ||
一种基于同位素或其二级质谱离子同位素丰度分布的质谱定量分析方法,属于分析检测技术领域。其分别步骤是确定待测物与工作对照品的同位素分布情况及多反应监测离子对;利用一级质谱同位素分布规律或二级离子同位素分布规律计算工作对照品中各个同位素峰或MRM离子对对应的浓度;利用工作对照品母离子同位素峰([M+n+X]i+)或MRM离子对的峰面积与对应的浓度绘制校正曲线;将待测物的同位素峰面积或MRM对应峰面积带入上述校正曲线,计算得出待测物浓度。本发明使得校正曲线,质控样品与实际样品的基质环境完全相同,同时无需额外准备校正曲线样品,极大提高分析的效率及检测结果准确度与可靠性。
技术领域:
本发明属于分析检测技术领域,涉及一种利用质谱技术的定量分析方法。
背景技术:
质谱技术已成为分析领域最强有力的分析工具之一。但目前利用质谱技术的分析方法存在如下两个缺陷:
(一)不能真实反映未知样品的基质环境,即校正曲线样品与实际样品的基质环境有很大差别。待测物存在于各种复杂的基质中,如生物样品,食物等。现有质谱分析方法的校正曲线和质控样品都是用空白生物基质与待测物混合配制而成,这种做法只能粗略地模拟未知样品的基质环境。以血浆为例,服药后的血浆与健康人空白血浆成分之间差距很大,如服药后造成机体内环境变化,会使血浆中的某些应急蛋白含量增多,药物的赋形剂,稳定剂等也都是空白血浆所没有的。此外,血浆成分是随时间动态变化的,代谢组学研究结果表明即使是健康人,同一个体每天血液中的成分也不是始终不变的。如人的血糖浓度,会随情绪变化而变化,进餐前后也有明显不同。这些成分的差异都可能对分析结果造成影响。因此用空白血浆做校正曲线分析实际样品必然会存在潜在的误差。
(二)现有的分析方法基本上都需要先制备校正曲线样品(6~8个浓度点)和QC样品(低、中、高浓度),然后才能对待测物进行定量分析,对于零散发生的样品无疑会大大降低检测效率,尤其对于临床检测的情况,时间就是生命,错过了最佳治疗,抢救的时机,会有生命危险。
发明内容:
本发明要解决的技术问题是公开一种基于同位素或二级质谱离子同位素丰度分布的质谱定量分析方法。
本发明是基于同位素或二级质谱离子同位素丰度分布的质谱定量分析新方法,其步骤如下:
1、确定待测物与工作对照品(同位素标记的待测物)的同位素分布情况及多反应监测离子对;
2、利用一级质谱同位素分布规律或二级离子同位素分布规律计算工作对照品中各个同位素峰或MRM离子对对应的浓度;
3、利用工作对照品母离子同位素峰([M+n+X]i+)或MRM离子对的峰面积与对应的浓度绘制校正曲线;
4、将待测物的同位素峰面积或MRM对应峰面积带入上述校正曲线,计算得出待测物浓度;
其中MRM表示多反应监测(Multiple Reaction Monitoring,MRM),[M+n+X]i+中的M表示母离子分子量,n为1,2,3……;i表示离子所带电荷数,可以取值1,2,3……,X表示氢质子,铵根离子,金属离子等常见质谱加和物。
所述的同位素标记系指稳定性同位素标记,包括但不限于13C、2H、15N、18O、37Cl、81Br、34S。
该质谱法利用同位素分布包括天然同位素分布和人工合成的同位素分布规律或其二级质谱同位素分布规律。
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