[发明专利]一种光学聚酯薄膜及其制备方法

权利要求书

1.一种光学聚酯薄膜，其特征在于，所述光学聚酯薄膜包括上表层、中间层和下表层，所述上表层覆盖在中间层上，所述中间层覆盖在所述下表层上，所述上表层、中间层、下表层分别经相应的熔融挤出系统挤出后，同时进入三层共挤模头层叠后，通过双向拉伸而形成所述的光学聚酯薄膜；所述上表层、中间层和下表层的质量份数为：所述上表层为10份～25份功能母料M和75份～90份纯净聚酯切片，所述中间层为5份～20份功能母料N和80份～95份纯净聚酯切片，所述下表层与所述上表层相同；

所述功能母料M质量组成为：95份～99.7份改性聚酯M1和0.3份～5份填料M2，所述填料M2的粒径为0.08μm～4μm；

所述功能母料N质量组成为：85份～95份改性聚酯N1和5份～15份填料N2，所述填料N2的粒径为0.01μm～0.2μm；

所述改性聚酯M1所采用的酸为α-乙酰氧基-2,6-萘二甲酸、p,p’-二羧基-3-乙酰氧基联苯、对苯二甲酸，其中α-乙酰氧基-2,6-萘二甲酸与p,p’-二羧基-3-乙酰氧基联苯与对苯二甲酸摩尔比为1～3:2～5:3～5，所述改性聚酯N1与改性聚酯M1相同；

所述填料M2为α-萘丙烯酸改性的聚苯乙烯微粒，所述α-萘丙烯酸改性的聚苯乙烯微粒的Tg≥310℃，所述填料N2与填料M2相同；

纯净切片为聚对苯二甲酸乙二醇酯切片。

2.根据权利要求1所述的光学聚酯薄膜，其特征在于，所述光学聚酯薄膜的厚度为12μm～250μm。

3.根据权利要求1或2所述的光学聚酯薄膜，其特征在于，所述光学聚酯薄膜为A/B/A三层结构。

4.根据权利要求3所述的光学聚酯薄膜，其特征在于，所述光学聚酯薄膜，A层与B层的厚度比为1:20～2:13。

5.一种如权利要求1所述光学聚酯薄膜的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括如下步骤：

原材料制配：所述光学聚酯薄膜包括上表层、中间层和下表层，不同表层的原材料进行分别配制，所述上表层包含10份～25份功能母料M和75份～90份纯净聚酯切片，其中，所述功能母料M质量组成为：95份～99.7份改性聚酯M1和0.3份～5份填料M2，所述填料M2的粒径为0.08μm～4μm；

所述中间层为5份～20份功能母料N和80份～95份纯净聚酯切片，下表层与上表层的组成成分或/和厚度可以相同或者不同；所述功能母料N质量组成为：85份～95份改性聚酯N1和5份～15份填料N2，所述填料N2的粒径为0.01μm～0.2μm；

光学聚酯薄膜制备：将相应配比量的所述功能母料M、所述功能母料N和所述纯净聚酯切片提前进行混合处理，送入相应的熔融挤出系统挤出，进入三层共挤模头层叠，然后经铸片、纵向拉伸、横向拉伸、热定型、冷却、牵引和收卷制得。

6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述熔融挤出温度为265℃～285℃。

7.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述纵向拉伸比为2.8～3.8。

8.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述横向拉伸比为3.5～5.0。

9.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述热定型温度为210℃～240℃。