[发明专利]磁控溅射镀膜装置

权利要求书

1.一种磁控溅射镀膜装置，其特征在于，所述磁控溅射镀膜装置包括壳体、设置于所述壳体顶部的真空组件、设置于所述壳体外侧壁的多个溅射阴极，所述壳体内部开设有用于容纳承载有工件的承载架的镀膜腔体，所述真空组件与所述镀膜腔体连通以抽取所述镀膜腔体的气体，多个所述溅射阴极绕所述壳体的外周壁均匀间隔布置，以均匀地对位于所述镀膜腔体的工件的外壁面镀膜，所述镀膜腔体的底壁和顶壁上分别设置有第一固定组件以及第二固定组件，所述第一固定组件和所述第二固定组件相对设置，所述第一固定组件和所述第二固定组件用于将流转至所述镀膜腔体内的所述承载架进行固定；所述磁控溅射镀膜装置还包括传送机构，所述传送机构位于所述壳体的底部并与所述镀膜腔体连通，所述传送机构用于将所述承载架转运至所述镀膜腔体内；

所述传送机构包括第一驱动件、主动轮、从动轮以及辊道，所述辊道沿所述承载架的流入方向均匀间隔布置在所述壳体底部，所述主动轮套装在所述第一驱动件的输出轴上，所述从动轮套装在所述辊道的端部，所述辊道与所述第一驱动件的输出轴垂直设置，所述主动轮和所述从动轮啮合连接；

所述第一固定组件包括第二驱动件、设置于所述辊道上方并与所述第二驱动件连接的第一旋转盘以及设置在所述第一旋转盘的轴心处的伸缩固定轴，所述承载架的轴心处开设有用于供所述伸缩固定轴插入的定位孔，所述伸缩固定轴能够沿靠近或远离所述承载架的方向移动，所述第二驱动件用于驱动所述第一旋转盘饶所述第二驱动件的输出轴的延伸方向旋转。

2.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜装置，其特征在于，所述第一固定组件还包括伸缩电机，所述伸缩电机设置在所述壳体上并与所述第一旋转盘连接。

3.根据权利要求2所述的磁控溅射镀膜装置，其特征在于，所述第二固定组件包括第三驱动件以及第二旋转盘，所述第二旋转盘能够抵接在所述承载架的上壁面上，所述第三驱动件与所述第二旋转盘连接以驱动所述第二旋转盘绕所述第三驱动件的输出轴的延伸方向旋转。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的磁控溅射镀膜装置，其特征在于，所述真空组件的数量为两个，且在所述壳体上对称布置。

5.根据权利要求4所述的磁控溅射镀膜装置，其特征在于，所述真空组件为分子泵。