[发明专利]用于将设计与工艺协同优化的方法和设备以及存储介质

权利要求书

1.一种用于将设计与工艺协同优化的方法，包括：

针对技术节点，生成工艺方案；

基于所述工艺方案，生成设计方案；以及

基于所述设计方案来更改所述工艺方案，以用于生成优化方案，

其中生成工艺方案包括基于与所述工艺方案的良率相关联的第一良率信息来生成所述工艺方案，以及/或者生成设计方案包括基于与所述设计方案的良率相关联的第二良率信息来生成所述设计方案。

2.根据权利要求1所述的方法，其中生成工艺方案包括：

基于良率模型来生成良率估计信息，所述良率模型包括多个工艺方案和与所述多个工艺方案相关联的良率数据；以及

基于所述良率估计信息来生成所述工艺方案。

3.根据权利要求1所述的方法，其中生成设计方案包括：

通过高良率设计套件来生成良率预测信息，所述高良率设计套件包括设计规则分析工具、关键图案分析工具、坏点分析工具、可靠性分析工具中的至少一个工具，并且被包含在单独的电子设计自动化工具中；以及

基于所述良率预测信息来生成所述设计方案。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法，其中生成设计方案包括：

生成关于所述设计方案中包括的设计结构的测试结构；

基于所述测试结构，生成关于所述设计结构的良率评价信息；以及

基于所述良率评价信息来生成所述设计方案。

5.根据权利要求4所述的方法，其中基于所述设计方案来更改所述工艺方案包括：

基于所述良率评价信息来更新良率模型，所述良率模型包括多个工艺方案和与所述多个工艺方案相关联的良率数据；以及

基于更新后的良率模型来确定所述工艺方案。

6.根据权利要求5所述的方法，其中生成优化方案包括：基于确定的所述工艺方案来确定所述设计方案。

7.根据权利要求1所述的方法，其中生成工艺方案包括：

通过良率模型和坏点模拟来生成层工艺良率估计信息，所述良率模型包括多个工艺方案和相关联的良率数据，所述坏点模拟从与工艺方案相对应的器件架构获得；以及

基于所述层工艺良率估计信息来生成所述工艺方案。

8.根据权利要求4所述的方法，其中生成针对所述设计结构的良率评价信息包括：

针对所述测试结构进行硅验证和良率分析，以生成所述良率评价信息；或者

通过模拟工具针对所述测试结构进行模拟，以生成所述良率评价信息。

9.一种电子设备，包括：

处理单元；

存储器，耦合至所述处理单元并且包括存储于其上的程序，所述程序在由所述处理单元执行时使所述电子设备执行根据权利要求1至8中任一项所述的方法。

10.一种计算机可读存储介质，所述计算机可读存储介质上存储有机器可执行指令，当所述机器可执行指令在被至少一个处理器执行时，使得所述至少一个处理器实现根据权利要求1至8中任一项所述的方法。