[发明专利]用于将设计与工艺协同优化的方法和设备以及存储介质

说明书

本文描述了用于将设计与工艺协同优化的方法和设备以及存储介质。在此描述的用于将设计与工艺协同优化的方法包括：针对技术节点，生成工艺方案；基于所述工艺方案，生成设计方案；以及基于所述设计方案来更改所述工艺方案，以用于生成优化方案，其中生成工艺方案包括基于与所述工艺方案的良率相关联的第一良率信息来生成所述工艺方案，以及/或者生成设计方案包括基于与所述设计方案的良率相关联的第二良率信息来生成所述设计方案。

技术领域

本公开的实施例一般地涉及半导体技术领域，并且更具体地涉及用于将设计与工艺协同优化的方法和设备以及计算机可读存储介质。

背景技术

当针对一个技术节点进行研发时，要选择的工艺方案和设计方案是相关联的。如果针对设计方案没有设置限制，则有效的工艺方案的实现难度较大。另一方面，如果为了使工艺方案容易实现而针对设计方案设置较多的限制，则很难满足设计方案的规则要求。已提出工艺和设计协同优化(DTCO)的方案，用于将工艺方案和设计方案彼此协作以满足新技术节点的器件的要求。

在DTCO中，工艺工程师从工艺角度出发，制定工艺方案，并且将工艺方案提供给设计工程师。设计工程师从设计角度出发，根据工艺方案和器件性能的要求，制定设计方案，并且与工艺工程师协同工作，保证在制定工艺方案时将设计方案的要求考虑在内，并且优化工艺方案和设计方案。通过设计方案和工艺方案的协同优化，可以平衡器件的可制造性和性能的要求。

DTCO可以减少流程开发时间，缩短先进工艺产品的上市时间，并且降低成本。期望提供DTCO的改进方案，以进一步缩短产品的上市时间。

发明内容

本公开的实施例提供了用于将设计与工艺协同优化的方法和设备以及计算机可读存储介质，其能够进一步缩短产品的上市时间并且降低生产成本。

在第一方面，提供了一种用于将设计与工艺协同优化的方法。该方法包括：针对技术节点，生成工艺方案；基于所述工艺方案，生成设计方案；以及基于所述设计方案来更改所述工艺方案，以用于生成优化方案，其中生成工艺方案包括基于与所述工艺方案的良率相关联的第一良率信息来生成所述工艺方案，以及/或者生成设计方案包括基于与所述设计方案的良率相关联的第二良率信息来生成所述设计方案。

在一些实施例中，生成工艺方案包括：基于良率模型来生成良率估计信息，所述良率模型包括多个工艺方案和与所述多个工艺方案相关联的良率数据；以及基于所述良率估计信息来生成所述工艺方案。

在一些实施例中，生成设计方案包括：通过高良率设计套件来生成良率预测信息，所述高良率设计套件包括设计规则分析工具、关键图案分析工具、坏点分析工具、可靠性分析工具中的至少一个工具，并且被包含在单独的电子设计自动化工具中；以及基于所述良率预测信息来生成所述设计方案。

在一些实施例中，生成设计方案包括：生成关于所述设计方案中包括的设计结构的测试结构；基于所述测试结构，生成关于所述设计结构的良率评价信息；以及基于所述良率评价信息来生成所述设计方案。

在一些实施例中，基于所述设计方案来更改所述工艺方案包括：基于所述良率评价信息来更新良率模型，所述良率模型包括多个工艺方案和与所述多个工艺方案相关联的良率数据；以及基于更新后的良率模型来确定所述工艺方案。

在一些实施例中，生成优化方案包括：基于确定的所述工艺方案来确定所述设计方案。

在一些实施例中，生成工艺方案包括：通过良率模型和坏点模拟来生成层工艺良率估计信息，所述良率模型包括多个工艺方案和相关联的良率数据，所述坏点模拟从与工艺方案相对应的器件架构获得；以及基于所述层工艺良率估计信息来生成所述工艺方案。

在一些实施例中，生成针对所述设计结构的良率评价信息包括：针对所述测试结构进行硅验证和良率分析，以生成所述良率评价信息；或者通过模拟工具针对所述测试结构进行模拟，以生成所述良率评价信息。。