[发明专利]一种GaN HEMT缩放模型电路拓扑结构在审

专利信息
申请号: 202011251658.1 申请日: 2020-11-11
公开(公告)号: CN112417804A 公开(公告)日: 2021-02-26
发明(设计)人: 毕磊 申请(专利权)人: 天津大学
主分类号: G06F30/367 分类号: G06F30/367
代理公司: 天津市三利专利商标代理有限公司 12107 代理人: 徐金生
地址: 300072*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 一种 gan hemt 缩放 模型 电路 拓扑 结构
【权利要求书】:

1.一种GaN HEMT缩放模型电路拓扑结构,其特征在于,包括直流电源VG、直流电源VD、直流电源VS、晶体管GH1、晶体管GH2、电感L1、电感L2、电感L3、直流电源V0、直流电源Vgs和直流电源Vds;

其中,晶体管GH1的栅极G、源极S和漏极D,分别与直流电源VG的正极、直流电源VS的正极和直流电源VD的正极相接;

直流电源VG、直流电源VS和直流电源VD三者的负极,均接地;

其中,晶体管GH2的栅极G、源极S和漏极D,分别与电感L2的一端、电感L1的一端和电感L3的一端相接;

电感L2的另一端,接直流电源Vgs的正极;

电感L1的另一端,接直流电源V0的负极;

电感L3的另一端,接直流电源Vds的正极;

直流电源Vgs的负极接地;

直流电源V0的正极,分别接直流电源VD的正极;

直流电源Vds的负极,接直流电源VS的正极;

其中,晶体管GH2的源极S和漏极D,还与表基电流源的两端相接。

2.如权利要求1所述的GaN HEMT缩放模型电路拓扑结构,其特征在于,晶体管GH1和晶体管GH2,均是氮化镓高电子迁移率晶体管GaN HEMT。

3.如权利要求1所述的GaN HEMT缩放模型电路拓扑结构,其特征在于,晶体管GH2的漏源电流,与表基电流源的漏源电流方向相反。

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