[发明专利]一种GaN HEMT缩放模型电路拓扑结构在审

专利信息
申请号: 202011251658.1 申请日: 2020-11-11
公开(公告)号: CN112417804A 公开(公告)日: 2021-02-26
发明(设计)人: 毕磊 申请(专利权)人: 天津大学
主分类号: G06F30/367 分类号: G06F30/367
代理公司: 天津市三利专利商标代理有限公司 12107 代理人: 徐金生
地址: 300072*** 国省代码: 天津;12
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 gan hemt 缩放 模型 电路 拓扑 结构
【说明书】:

发明公开了一种GaN HEMT缩放模型电路拓扑结构,其中,晶体管GH1的栅极G、源极S和漏极D,分别与直流电源VG、VS和VD的正极相接;晶体管GH2的栅极G、源极S和漏极D,分别与电感L2的一端、电感L1的一端和电感L3的一端相接;电感L2的另一端,接直流电源Vgs的正极;电感L1的另一端,接直流电源V0的负极;电感L3的另一端,接直流电源Vds的正极;其中,晶体管GH2的源极S和漏极D,还与表基电流源的两端相接。本发明公开的一种GaN HEMT缩放模型电路拓扑结构,可以解决模型精度和延展性的问题,同时满足温度变化特性,从而实现更高的模型精度,满足电路仿真要求。

技术领域

本发明涉及半导体器件建模技术领域,特别是涉及一种GaN HEMT缩放模型电路拓扑结构。

背景技术

随着GaN(氮化镓)研究水平的深入和产品技术的提高,GaN微波功率器件的可靠性得到持续提升,已经从实验室走向了市场,广泛应用于民用与国防领域。

对于固定特征尺寸(栅长)工艺,由于晶体管器件的总输出功率与器件管总栅宽成正比,因此在微波毫米波GaN电路设计时,特别是单片微波集成电路的设计,器件模型的栅指数和单位栅宽标度需要优化选择,以实现最有的电路性能。因此,大信号可缩放模型的建模方法,对GaN电路的发展具有重要意义。

对于测量基大信号模型,由于目前测量仪器(或配件)的最高频率、最大电流、阻抗范围或最大功率等因素的限制,难以对所有所需的器件尺寸(特别是大尺寸器件的在片牵引)完成必要的测试,因此,模型的可缩放性时,是大尺寸器件的一个重要建模手段。

现有的模型有查找表模型、经验模型等,它们各有优缺点。

其中,查找表模型依据于大量的测试数据,精度高,但是,对测量范围之外的预测数据,精度较难保证,采用表格的形式,来储存晶体管的输入、输出响应以及参数值与外部偏置电压的对应关系。查找表模型,其优点是:不需要进行参数提取和等效电路的建立,直观并且简便,但是,其缺点在于:这些关系并不连续,需要进行多项式拟合,而且在超出查找表范围的晶体管模型的特性,是不能保证准确性的。此外,查找表模型并不能准确预测温度变化、频率迁移、不同尺寸器件的缩放关系等晶体管的特性,而随着新型半导体化合物晶体管的特性变得更为复杂,需要的查找表范围和数据太过于庞大,不利于仿真。经验模型参数提取简单、延展性好。

通常,经验模型是晶体管的等效电路表现形式。各种电特性测量是一个对晶体管特性参数确定的过程,把晶体管参数映射到网络元件模拟电气,进而进行特性分析。等效电路的参数,可以通过不同的测量,如电流-电压(I-V)、小信号S参数进行参数提取。这个方法,对于小信号模型来说很实用,可以形成一个依赖于偏置的线性晶体管模型。而对大信号等效电路参数,需要使用数学解析式进行拟合,得到一个对大信号模型的方程描述。但是数学公式或函数本身是没有意义的。

综上所述,为解决模型延展性问题,实现更高的模型精度,同时满足温度变化等特性,达到更准确电路仿真的目的,目前迫切需要开发出一种新的技术。

发明内容

本发明的目的是针对现有技术存在的技术缺陷,提供一种GaN HEMT缩放模型电路拓扑结构。

为此,本发明提供了一种GaN HEMT缩放模型电路拓扑结构,其包括直流电源VG、直流电源VD、直流电源VS、晶体管GH1、晶体管GH2、电感L1、电感L2、电感L3、直流电源V0、直流电源Vgs和直流电源Vds;

其中,晶体管GH1的栅极G、源极S和漏极D,分别与直流电源VG的正极、直流电源VS的正极和直流电源VD的正极相接;

直流电源VG、直流电源VS和直流电源VD三者的负极,均接地;

其中,晶体管GH2的栅极G、源极S和漏极D,分别与电感L2的一端、电感L1的一端和电感L3的一端相接;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于天津大学,未经天津大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011251658.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top