[发明专利]基板清洗设备及基板清洗方法在审
| 申请号： | 202011254801.2 | 申请日： | 2020-11-11 |
| 公开（公告）号： | CN112435938A | 公开（公告）日： | 2021-03-02 |
| 发明（设计）人： | 李祥龙 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;H01L51/56;H01L27/32 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人： | 李新干 |
| 地址： | 518132 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 清洗 设备 方法 | ||
1.一种基板清洗设备，其特征在于，包括：
混合装置，所述混合装置用于将臭氧和水进行混合，形成臭氧水；
清洗装置，所述清洗装置用于利用所述混合装置中形成的所述臭氧水对所述基板进行清洗。
2.如权利要求1所述的基板清洗设备，其特征在于，所述基板清洗设备还包括检测装置；
所述检测装置用于检测所述混合装置中所述臭氧水的浓度；
当所述检测装置检测出所述混合装置中所述臭氧水的浓度为预设浓度时，所述清洗装置用于利用具有所述预设浓度的所述臭氧水对所述基板进行清洗。
3.如权利要求1所述的基板清洗设备，其特征在于，所述基板清洗设备还包括分解装置；
所述分解装置用于对所述基板进行清洗后所残留的臭氧水中的臭氧进行分解。
4.如权利要求1所述的基板清洗设备，其特征在于，所述基板清洗设备还包括发生装置；
所述发生装置用于生成臭氧，并将所述臭氧输送至所述混合装置。
5.如权利要求1所述的基板清洗设备，其特征在于，所述基板清洗设备还包括计时装置；
所述计时装置用于对所述清洗装置清洗所述基板的时长进行计时；
所述清洗装置用于根据所述计时装置的预设时长利用所述臭氧水对所述基板进行清洗。
6.如权利要求1所述的基板清洗设备，其特征在于，所述混合装置和所述清洗装置通过耐腐蚀管道连接，所述混合装置内的所述臭氧水通过所述耐腐蚀管道输送至所述清洗装置。
7.一种基板清洗方法，其特征在于，包括：
将臭氧与水进行混合，以形成臭氧水；
利用所述臭氧水对所述基板进行清洗。
8.如权利要求7所述的基板清洗方法，其特征在于，在所述将臭氧与水进行混合，以形成臭氧水之后，所述利用所述臭氧水对所述基板进行清洗之前，还包括：
对所述臭氧水的浓度进行检测；
当检测出的所述臭氧水的浓度为预设浓度时，利用具有所述预设浓度的所述臭氧水对所述基板进行清洗。
9.如权利要求7所述的基板清洗方法，其特征在于，在利用所述臭氧水对所述基板进行清洗之后，还包括：
对所述基板进行清洗后所残留的臭氧水中的臭氧进行分解。
10.如权利要求7所述的基板清洗方法，其特征在于，在所述利用所述臭氧水对所述基板进行清洗的同时，还包括：
对所述基板的清洗时长进行计时，以对所述基板清洗的时长进行计时。
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