[发明专利]运动装置有效

专利信息
申请号: 202011258941.7 申请日: 2020-11-12
公开(公告)号: CN112104182B 公开(公告)日: 2021-02-02
发明(设计)人: 胡兵;吴聪懿;江旭初 申请(专利权)人: 上海隐冠半导体技术有限公司
主分类号: H02K33/00 分类号: H02K33/00;H02K33/18
代理公司: 上海上谷知识产权代理有限公司 31342 代理人: 蔡继清
地址: 200135 上海市浦东*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 运动 装置
【权利要求书】:

1.一种运动装置,包括至少一个基座台和至少一个承载台,每个承载台与对应的基座台可以产生相对运动,其特征在于,

每个基座台包括多个线圈阵列,所述多个线圈阵列包括:

第一线圈阵列,配置在与第一方向平行的所述基座台的第一平面上,所述第一线圈阵列包括多个第一线圈,所述多个第一线圈沿所述第一方向两两相邻配置;

第二线圈阵列,配置在与所述第一方向平行的所述基座台的第二平面上,所述第二线圈阵列包括多个第二线圈,所述多个第二线圈沿所述第一方向两两相邻配置;

其中,所述第一平面和所述第二平面相互不平行;

所述基座台还包括多个金属板,所述多个金属板包括:

第一金属板,配置在所述第一线圈阵列的表面上,所述第一金属板沿所述第一方向线性延伸,与所述第一平面封闭所述第一线圈阵列形成第一空间;

第二金属板,配置在所述第二线圈阵列的表面上,所述第二金属板沿所述第一方向线性延伸,与所述第二平面封闭所述第二线圈阵列形成第二空间;

其中,所述第一空间和所述第二空间为密闭空间;

每个承载台包括多个磁体阵列,所述多个磁体阵列包括:

第一磁体阵列,配置在与所述第一平面平行且相对的第三平面上,所述第一磁体阵列与所述第一线圈阵列分别在所述第一平面上的投影有交集;所述第一磁体阵列包括多个第一N磁体和多个第一S磁体,且所述第一N磁体与所述第一S磁体沿所述第一方向交替排列,所述第一N磁体与所述第一S磁体的磁化方向相互不同;

第二磁体阵列,配置在与所述第二平面平行且相对的第四平面上,所述第二磁体阵列与所述第二线圈阵列分别在所述第二平面上的投影有交集;所述第二磁体阵列包括多个第二N磁体和多个第二S磁体,且所述第二N磁体与所述第二S磁体沿所述第一方向交替排列,所述第二N磁体与所述第二S磁体的磁化方向相互不同。

2.根据权利要求1所述的运动装置,其特征在于,所述基座台包括第一凹槽和第二凹槽;

所述第一平面位于所述第一凹槽的底面,所述第一金属板封闭所述第一凹槽的口部形成所述第一空间;

所述第二平面位于所述第二凹槽的底面,所述第二金属板封闭所述第二凹槽的口部形成所述第二空间。

3.根据权利要求2所述的运动装置,其特征在于,所述第一金属板与所述第一凹槽的口部之间还配置有密封圈,和/或所述第二金属板与所述第二凹槽的口部之间还配置有密封圈。

4.根据权利要求1所述的运动装置,其特征在于,所述多个线圈阵列还包括:

第三线圈阵列,配置在与所述第一方向平行的所述基座台的第五平面上,所述第三线圈阵列包括多个第三线圈,所述多个第三线圈沿所述第一方向两两相邻配置;

第四线圈阵列,配置在与所述第一方向平行的所述基座台的第六平面上,所述第四线圈阵列包括多个第四线圈,所述多个第四线圈沿所述第一方向两两相邻配置;

其中,所述第五平面和所述第六平面相互不平行;

所述多个磁体阵列还包括:

第三磁体阵列,配置在与所述第五平面平行且相对的第七平面上,所述第三磁体阵列与所述第三线圈阵列分别在所述第五平面上的投影有交集;所述第三磁体阵列包括多个第三N磁体和多个第三S磁体,且所述第三N磁体与所述第三S磁体沿所述第一方向交替排列,所述第三N磁体与所述第三S磁体的磁化方向相互不同;

第四磁体阵列,配置在与所述第六平面平行且相对的第八平面上,所述第四磁体阵列与所述第四线圈阵列分别在所述第六平面上的投影有交集;所述第四磁体阵列包括多个第四N磁体和多个第四S磁体,且所述第四N磁体与所述第四S磁体沿所述第一方向交替排列,所述第四N磁体与所述第四S磁体的磁化方向相互不同;

所述多个金属板还包括:

第三金属板,配置在所述第三线圈阵列的表面上,所述第三金属板沿所述第一方向线性延伸,与所述第五平面封闭所述第三线圈阵列形成第三空间;

第四金属板,配置在所述第四线圈阵列的表面上,所述第四金属板沿所述第一方向线性延伸,与所述第六平面封闭所述第四线圈阵列形成第四空间。

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