[发明专利]基板薄膜缺陷检验方法及装置

权利要求书

1.一种基板薄膜缺陷检验方法，由一控制器执行，其特征在于：包括：

驱使一基板经历一反光测试及一透光测试，以取得源自所述基板的数个像素的实测反光数据及实测透光数据；

读取相应于所述基板的数个像素的标准反光数据及标准透光数据，及读取所述基板的一黑矩阵区范围；

依据所述标准反光数据、所述实测反光数据、所述标准透光数据及所述实测透光数据，逐一比对所述像素是否有缺陷；

所述逐一比对所述像素是否有缺陷的步骤为，判断是否符合下列每个条件：

所述标准反光数据与所述实测反光数据的差值的绝对值小于一阈值；且

所述标准透光数据与所述实测透光数据的差值的绝对值小于所述阈值；

若判断为是，则无缺陷，若判断为否，则有缺陷；

所述像素若无缺陷，记录为一达标状态；

所述像素若有缺陷，判断是否符合下列每个条件：

所述实测反光数据减去所述标准反光数据的差值大于或等于所述阈值；且

所述实测透光数据与所述标准透光数据的差值的绝对值小于所述阈值；且

所述像素不在所述黑矩阵区范围内；

若判断为是，记录为所述达标状态，若判断为否，产生一送修命令，驱使所述像素所在位置进行一修补作业。

2.如权利要求1所述的基板薄膜缺陷检验方法，其特征在于：所述反光测试是以一第一摄像机摄取一第一光源被所述基板反射所产生的图像作为所述实测反光数据；及所述透光测试是以一第二摄像机摄取一第二光源透过所述基板所产生的图像作为所述实测透光数据。

3.如权利要求1所述的基板薄膜缺陷检验方法，其特征在于：所述标准反光数据、所述实测反光数据、所述标准透光数据及所述实测透光数据中的每一个包括至少一像素灰阶值。

4.如权利要求1所述的基板薄膜缺陷检验方法，其特征在于：适用于检验一液晶显示器的一彩膜基板中的一氧化铟锡薄膜的针孔缺陷。

5.一种基板薄膜缺陷检验装置，其特征在于：包括：

一平台，用于放置一基板；

一第一光源，朝向所述平台的一侧射出光线，使所述基板反射光线；

一第一摄像机，与所述第一光源设置在所述平台的同一侧，用于摄取所述基板反射光线的图像；

一第二光源，朝向所述平台的一侧射出光线，使所述基板透射光线；

一第二摄像机，与所述第二光源设置在所述平台的相对两侧，用于摄取所述基板透射光线的图像；及

一控制器，电性连接所述第一光源、所述第一摄像机、所述第二光源及所述第二摄像机；

其中所述控制器控制所述第一光源、所述第一摄像机、所述第二光源及所述第二摄像机，使所述基板经历一反光测试及一透光测试，取得源自所述基板的数个像素的实测反光数据及实测透光数据；读取相应于所述基板的数个像素的标准反光数据及标准透光数据，及读取所述基板的一黑矩阵区范围；依据所述标准反光数据、所述实测反光数据、所述标准透光数据及所述实测透光数据，逐一比对所述像素是否有缺陷；

所述逐一比对所述像素是否有缺陷的步骤为，判断是否符合下列每个条件：

所述标准反光数据与所述实测反光数据的差值的绝对值小于一阈值；且

所述标准透光数据与所述实测透光数据的差值的绝对值小于所述阈值；

若判断为是，则无缺陷，若判断为否，则有缺陷；

所述像素若无缺陷，记录为一达标状态；

所述像素若有缺陷，判断是否符合下列每个条件：

所述实测反光数据减去所述标准反光数据的差值大于或等于所述阈值；且

所述实测透光数据与所述标准透光数据的差值的绝对值小于所述阈值；且

所述像素不在所述黑矩阵区范围内；

若判断为是，记录为所述达标状态，若判断为否，产生一送修命令。

6.如权利要求5所述的基板薄膜缺陷检验装置，其特征在于：所述平台被配置成一输送机，所述输送机连接一修补机，所述控制器电性连接所述输送机，所述控制器依据所述送修命令驱使所述输送机将所述基板送至所述修补机。