[发明专利]一种用于双枪双进料系统电子束熔炼炉的磁屏蔽系统

权利要求书

1.一种用于双枪双进料系统电子束熔炼炉的磁屏蔽系统，所述双枪双进料系统电子束熔炼炉包括电子束熔炼室、电子束枪（11）、结晶器（14）、第一进料通道（12）、第二进料通道（13）和出料通道，所述电子束熔炼室包括炉体（16），所述电子束枪（11）为两把，两把所述电子束枪（11）间隔安装于炉体（16）顶部壁面上，所述第一进料通道（12）设置于炉体（16）顶部且位于两把电子束枪（11）之间，所述第二进料通道（13）设置于炉体（16）侧部，所述第一进料通道（12）轴线和第二进料通道（13）轴线垂直，所述结晶器（14）设置于炉体（16）内且所述结晶器（14）的下部开口正对所述出料通道，所述出料通道内设置有可打开或关闭所述出料通道的炉阀（15），其特征在于，所述炉体（16）内固定设置有磁屏蔽复合罩（2），所述磁屏蔽复合罩（2）形成屏蔽腔，所述屏蔽腔内可拆卸设置有吸收罩（3），所述结晶器（14）位于所述屏蔽腔内；

所述磁屏蔽复合罩（2）上对应电子束枪（11）处开设有供电子束枪（11）穿过的电子束枪开口（22），所述磁屏蔽复合罩（2）上对应第一进料通道（12）和第二进料通道（13）处分别开设有进料口，两个所述进料口上均设置有可打开或关闭相应进料口的进料口暗门（231），所述磁屏蔽复合罩（2）上对应所述出料通道处开设有出料口；

所述炉阀（15）上部设置有可封堵所述出料口的密封塞（232），所述密封塞（232）与炉阀（15）固定连接；

所述吸收罩（3）位于结晶器（14）上方，所述吸收罩（3）上开设有通口（31），所述通口（31）位于第一进料通道（12）下方且正对第一进料通道（12）；

所述磁屏蔽复合罩（2）为双层复合结构，双层复合结构的磁屏蔽复合罩（2）包括第一层罩体（24）和第二层罩体（25），所述第二层罩体（25）位于炉体（16）和第一层罩体（24）之间，所述第二层罩体（25）靠近炉体（16）的表面焊接固定于炉体（16）内腔壁面上；所述第一层罩体（24）的厚度≤0.3mm，所述第二层罩体（25）厚度≤0.5mm，所述第一层罩体（24）材质为钽，所述第二层罩体（25）材质为钢；

所述磁屏蔽复合罩（2）通过爆炸复合结合轧制方法制备而成。

2.根据权利要求1所述的一种用于双枪双进料系统电子束熔炼炉的磁屏蔽系统，其特征在于，所述磁屏蔽复合罩（2）的形状与炉体（16）内腔形状匹配，所述磁屏蔽复合罩（2）焊接于炉体（16）内腔的壁面上；所述密封塞（232）与所述出料口形状匹配，所述密封塞（232）材质与磁屏蔽复合罩（2）材质相同。

3.根据权利要求1所述的一种用于双枪双进料系统电子束熔炼炉的磁屏蔽系统，其特征在于，所述吸收罩（3）到结晶器（14）的垂直距离高于第二进料通道（13）到结晶器（14）的垂直距离。

4.根据权利要求1所述的一种用于双枪双进料系统电子束熔炼炉的磁屏蔽系统，其特征在于，所述吸收罩（3）的两侧分别设置有用于与磁屏蔽复合罩（2）可拆卸连接的第一螺柱（32），所述第一螺柱（32）上套设有螺母（33），所述磁屏蔽复合罩（2）对应位置处设置有第二螺柱（34）。

5.根据权利要求1所述的一种用于双枪双进料系统电子束熔炼炉的磁屏蔽系统，其特征在于，所述爆炸复合结合轧制方法包括：

步骤一、将经轧制和退火处理后得到的钽板材和钢板材分别作为待复合钽板材和待复合钢板材；

步骤二、擦拭步骤一所述待复合钽板材的待复合面和待复合钢板材的待复合面；

步骤三、将步骤二擦拭后待复合钽板材和擦拭后待复合钢板材进行组合装配和爆炸复合处理，得到复合板初产品；

步骤四、将步骤三所述复合板初产品经清洁处理、退火和轧制，得到复合板；

步骤五、按照电子束枪（11）位置、第一进料通道（12）位置、第二进料通道（13）位置和所述出料通道位置在步骤四所述复合板上预留定位孔，按照炉体（16）内腔尺寸将预留定位孔后复合板下料至所述炉体（16）内，焊接，得到磁屏蔽复合罩（2）。

6.根据权利要求5所述的一种用于双枪双进料系统电子束熔炼炉的磁屏蔽系统，其特征在于，步骤二擦拭待复合钽板材的待复合面和待复合钢板材的待复合面为用绸布蘸取酒精或丙酮进行擦拭。