[发明专利]直接曝光装置和基板的曝光方法

权利要求书

1.一种直接曝光装置，其具有：

一对曝光单元，它们隔着基板对置配置；以及

一对吸附部，它们在各曝光单元的曝光区域中吸附所述基板的与所述曝光区域相反的面。

2.根据权利要求1所述的直接曝光装置，其中，

所述一对曝光单元中的一个曝光单元的曝光区域与另一个曝光单元的曝光区域以在副扫描方向(Y)上错开的方式配置。

3.根据权利要求2所述的直接曝光装置，其中，

各所述曝光单元具有隔开间隔在副扫描方向(Y)上排列的多个曝光区域，所述一个曝光单元的多个曝光区域和所述另一个曝光单元的多个曝光区域以位于彼此不同的位置的方式排列。

4.根据权利要求1至3中的任意一项所述的直接曝光装置，其中，

在承载所述基板的曝光载台上配置所述一对吸附部，

所述一对吸附部隔着所述基板对置配置，

所述吸附部分别具备：对各曝光单元的曝光区域的相反面进行吸附保持的多个曝光区域保持部；和与该曝光区域保持部相邻且供曝光光穿过的多个带状的开口部。

5.根据权利要求4所述的直接曝光装置，其中，

该直接曝光装置具备第一移动部，该第一移动部使所述曝光载台在扫描方向(X)上移动以使所述基板相对于所述曝光区域在扫描方向(X)上进行相对移动而进行曝光。

6.根据权利要求5所述的直接曝光装置，其中，

该直接曝光装置具备第二移动部和第三移动部，该第二移动部使所述基板与所述曝光区域在副扫描方向(Y)上进行相对移动，该第三移动部使所述吸附部的基板吸附位置分别在副扫描方向(Y)上移动。

7.根据权利要求6所述的直接曝光装置，其中，

在使所述基板吸附位置移动时，维持吸附着基板的至少一部分的状态。

8.一种基板的曝光方法，该曝光方法利用了直接曝光装置，该直接曝光装置使基板在对置配置的一对曝光单元之间移动并对基板的两个面进行曝光，该基板的曝光方法包括以下步骤：

使所述一对曝光单元和吸附于吸附部的基板在主扫描方向(X)上进行相对移动，对所述基板的两个面的一部分进行曝光；

使所述基板和所述一对曝光单元在副扫描方向(Y)上相对地移动；

使所述吸附部的吸附所述基板的位置在副扫描方向(Y)上移动；以及

使所述一对曝光单元和吸附于所述吸附部的所述基板在主扫描方向(X)上进行相对移动，对所述基板的两个面的其他部分进行曝光。