[发明专利]一种用于半导体晶圆光刻显影蚀刻的设备有效

专利信息
申请号: 202011298154.5 申请日: 2020-11-19
公开(公告)号: CN112327585B 公开(公告)日: 2022-07-05
发明(设计)人: 周天 申请(专利权)人: 青岛芯微半导体科技有限公司
主分类号: G03F7/30 分类号: G03F7/30
代理公司: 无锡风创知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32461 代理人: 冯霞霞
地址: 266000 山东省青岛*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 半导体 圆光 显影 蚀刻 设备
【权利要求书】:

1.一种用于半导体晶圆光刻显影蚀刻的设备,包括设备外箱(1),其特征在于:所述设备外箱(1)内腔的底部设置有导向机构(2),所述导向机构(2)的顶部设置有复位机构(3),所述复位机构(3)的顶部设置有放置台(5),所述设备外箱(1)内腔右侧底部固定安装有驱动装置(4),所述设备外箱(1)的左侧活动安装有闭合门(6),所述设备外箱(1)内腔的顶部设置有下压机构(7),所述下压机构(7)的底部设置有调整机构(8),所述调整机构(8)的底部活动安装有遮光物本体(9),所述闭合门(6)右侧的顶部固定安装有紫外线光照装置(12),所述设备外箱(1)顶部的左侧贯穿设置有输液机构(11);

所述下压机构(7)包括固定安装在设备外箱(1)内腔顶部的推动气缸(71),所述推动气缸(71)的活塞杆底部固定安装有下压板(72);

所述调整机构(8)包括焊接在下压板(72)底部右侧的安装架(81),所述安装架(81)的左侧设置有与其转动连接的电动伸缩杆(82),所述下压板(72)底部固定连接有位于安装架(81)左侧的固定架一(83),所述固定架一(83)的底部转动连接有L形活动架(84),所述L形活动架(84)的左端为自上向下自右向左倾斜的斜面,所述L形活动架(84)的右侧固定连接有固定架二(85),所述电动伸缩杆(82)的输出端与固定架二(85)转动连接;

所述L形活动架(84)的底部焊接有固定架三(86),所述固定架三(86)的内腔转动连接有安装块(87),所述遮光物本体(9)与安装块(87)螺纹连接;

所述导向机构(2)包括焊接在设备外箱(1)底部内壁上的导向轨(21),所述导向轨(21)内腔的两侧均开设有长圆孔,所述导向轨(21)的内腔滑动连接有滑动块(22),所述滑动块(22)的两侧分别固定连接有与两长圆孔滑动配合的滑动销(23);

所述复位机构(3)包括焊接在滑动块(22)顶部的承托块(31),所述承托块(31)的右侧与驱动装置(4)的输出端固定连接,所述承托块(31)的顶部开设有凹槽(33),所述凹槽(33)内腔的左侧转动连接有转动块(32),所述凹槽(33)内腔的右侧固定连接有弹簧(34);

所述放置台(5)包括放置板(51),所述放置板(51)的左端设置有与其一体成型的转动凸块(52),所述转动凸块(52)与闭合门(6)转动连接,所述弹簧(34)和转动块(32)分别与放置板(51)固定连接,所述放置板(51)的顶部周边开设有环形集液槽(53),所述环形集液槽(53)中前后两侧的左端分别开设有排液孔(54),所述排液孔(54)的底部安装有位于放置板(51)底部的密封塞(55)。

2.根据权利要求1所述的一种用于半导体晶圆光刻显影蚀刻的设备,其特征在于:所述输液机构(11)包括贯穿设置在设备外箱(1)顶部的输液管(111),所述输液管(111)位于设备外箱(1)内腔的一端固定安装有喷洒头(112),所述喷洒头(112)贯穿安装在下压板(72)上。

3.根据权利要求2所述的一种用于半导体晶圆光刻显影蚀刻的设备,其特征在于:所述闭合门(6)的左侧焊接有把手(10)。

4.根据权利要求3所述的一种用于半导体晶圆光刻显影蚀刻的设备,其特征在于:其使用步骤如下:

㈠、使用者手持把手(10),通过把手(10)控制闭合门(6)保持垂直状态;

㈡、启动驱动装置(4),驱动装置(4)推动复位机构(3)向左侧移动,复位机构(3)带动放置台(5)向左侧移动,使闭合门(6)保持垂直状态向左侧移动,复位机构(3)移动的过程中带动滑动块(22)在导向轨(21)的内腔滑动,同时滑动销(23)会在导向轨(21)上的长圆孔内滑动,保证复位机构(3)平稳移动,这一过程中,使用者继续手持把手(10)保证闭合门(6)保持垂直状态;

㈢、当闭合门(6)移出设备外箱(1)后,使用者手持把手(10)将闭合门(6)向左侧转动,然后将用于制作芯片的硅晶片放置于放置板(51)的中心处;

㈣、使用者通过把手(10)将闭合门(6)旋转至垂直状态,然后再次启动驱动装置(4),驱动装置(4)将放置台(5)拉回原位,完成准备工作;

㈤、启动推动气缸(71),推动气缸(71)带动下压板(72)和遮光物本体(9)下移,使遮光物本体(9)覆盖在硅晶片上,硅晶片上涂有光致抗蚀剂,然后开启紫外线光照装置(12)对硅晶片进行照射;

㈥、启动电动伸缩杆(82),电动伸缩杆(82)推动L形活动架(84)和固定架三(86)转动,使L形活动架(84)的左端斜面与下压板(72)的底部接触并形成三角支撑结构,遮光物本体(9)在自身重力的作用下始终保持垂直状态;

㈦、冲洗溶剂通过输液管(111)进入到设备外箱(1)的内腔,然后通过喷洒头(112)喷洒至放置板(51)的表面,对被紫外光溶解的光致抗蚀剂进行冲洗,冲洗溶剂和光致抗蚀剂进入到环形集液槽(53)内;

㈧、当工作完成后,驱动装置(4)向左推动放置台(5),使用者手持把手(10)将闭合门(6)向左旋转打开,当闭合门(6)的右端接触到放置台(5)的左端底部后,放置台(5)会相对于转动块(32)的轴线翻转,放置台(5)左端下压、右端克服弹簧(34)的弹力向上翘起,将密封塞(55)取出,环形集液槽(53)内的冲洗溶剂和光致抗蚀剂通过排液孔(54)排出。

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