[发明专利]一种晶圆化学镀前处理方法在审
申请号: | 202011301285.4 | 申请日: | 2020-11-19 |
公开(公告)号: | CN112522686A | 公开(公告)日: | 2021-03-19 |
发明(设计)人: | 陈云利;王健;李军;周志强 | 申请(专利权)人: | 苏州尊恒半导体科技有限公司 |
主分类号: | C23C18/18 | 分类号: | C23C18/18;B08B3/12 |
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地址: | 215316 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 化学 处理 方法 | ||
1.一种晶圆化学镀前处理方法,其特征在于:其制作方法为:
a)首先将表面完成电镀钯金属的晶圆放置于载具内,然后将载具放置超声波清洗机上的清洗槽内;
b)在超声波清洗机上的清洗槽内注入清水,此时清水的高度高于载具的高度,清水的量具体为60到80升;
c)然后超声波清洗机开始工作对晶圆进行清洗,在此过程中保持1到2分钟的清洗时间;
d)最后清洗结束后将晶圆搬运到指定位置处。
2.根据权利要求1所述的一种晶圆化学镀前处理方法,其特征在于:所述清水具体为常温状态,所述超声波清洗机的功率具体为1KW。
3.根据权利要求2所述的一种晶圆化学镀前处理方法,其特征在于:所述超声波清洗机工作时的频率具体为40KHz。
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C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
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