[发明专利]一种晶圆化学镀前处理方法在审

专利信息
申请号: 202011301285.4 申请日: 2020-11-19
公开(公告)号: CN112522686A 公开(公告)日: 2021-03-19
发明(设计)人: 陈云利;王健;李军;周志强 申请(专利权)人: 苏州尊恒半导体科技有限公司
主分类号: C23C18/18 分类号: C23C18/18;B08B3/12
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215316 江苏省苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 化学 处理 方法
【权利要求书】:

1.一种晶圆化学镀前处理方法,其特征在于:其制作方法为:

a)首先将表面完成电镀钯金属的晶圆放置于载具内,然后将载具放置超声波清洗机上的清洗槽内;

b)在超声波清洗机上的清洗槽内注入清水,此时清水的高度高于载具的高度,清水的量具体为60到80升;

c)然后超声波清洗机开始工作对晶圆进行清洗,在此过程中保持1到2分钟的清洗时间;

d)最后清洗结束后将晶圆搬运到指定位置处。

2.根据权利要求1所述的一种晶圆化学镀前处理方法,其特征在于:所述清水具体为常温状态,所述超声波清洗机的功率具体为1KW。

3.根据权利要求2所述的一种晶圆化学镀前处理方法,其特征在于:所述超声波清洗机工作时的频率具体为40KHz。

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