[发明专利]一种具有缓释功能的药物洗脱人工晶状体及其制备方法有效
申请号: | 202011303878.4 | 申请日: | 2020-11-19 |
公开(公告)号: | CN112402098B | 公开(公告)日: | 2022-03-08 |
发明(设计)人: | 韩海杰;姚克;计剑;张晓波;汪璟 | 申请(专利权)人: | 浙江大学 |
主分类号: | A61F9/007 | 分类号: | A61F9/007;A61M31/00;A61F2/16 |
代理公司: | 杭州九洲专利事务所有限公司 33101 | 代理人: | 王之怀;王洪新 |
地址: | 310058 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 具有 功能 药物 洗脱 人工 晶状体 及其 制备 方法 | ||
本发明涉及一种人工晶状体及其制备方法。目的是提供一种具有缓释功能的药物洗脱人工晶状体及其制备方法;所述人工晶状体应能够在不影响人工晶状体透光性以及稳定性的前提下,有效预防白内障超声乳化手术术后的多种常见并发症,从而保障患者术后视觉质量的恢复并避免不必要的严重后果的发生。技术方案是:具有缓释功能的药物洗脱人工晶状体,包括人工晶状体的光学部以及位于光学部边缘的若干个襻;其特征在于:所述若干个襻对称于光学部中心布置且每个襻的表面附着药物洗脱涂层,每个襻的药物洗脱涂层的表面积为光学部表面积的30%以上。
技术领域
本发明涉及一种人工晶状体及其制备方法,尤其是具有药物缓释功能以用于白内障超声乳化手术中可替代眼内晶状体的可折叠人工晶状体及其制备方法,可有效抑制白内障术后微生物感染、炎症反应以及与后囊膜混浊等术后并发症。
背景技术
白内障目前仍然是全世界范围内的首要的致盲眼病,据世界卫生组织报告,全世界视力受损的人数约为2.85亿,其中约9400万人是由白内障引起。随着人口老龄化,白内障的发病率和发病人数还将继续增长。白内障超声乳化手术是目前治疗白内障的唯一有效方式,然而,现代白内障手术仍存在一些术后并发症,如眼内炎和后囊膜混浊等,严重限制了患者术后视力的恢复,或导致术后视力严重下降甚至失明。由细菌和真菌等病原体通过手术传播到眼睛后引起的眼内炎是白内障手术后最严重的并发症之一,严重的感染易导致功能减退、失明甚至眼球穿透。术后眼内炎的报告率在0.04%-0.2%之间,在发展中国家情况尤为严重。此外,现代白内障超声乳化手术最常见的远期并发症——后囊膜混浊,也严重限制了患者术后视力的恢复。据报道,成人患者术后,后囊膜混浊的发病率为20%-60%,而由于青少年和儿童的细胞具有更强的再生和增殖能力,其发病率甚至达到95%以上。手术技术的改进和人工晶状体设计和材料的创新可以在一定程度上降低后囊膜混浊的发生率,但效果并不显著。目前治疗后囊膜混浊的主要方法是Nd:YAG激光后囊切开术,此方法虽然简单有效,但它也会使增加相应并发症的风险,如角膜水肿、葡萄膜炎、前房出血、黄斑囊样水肿、眼压升高,甚至恶性青光眼等。因此,针对白内障手术所带来的常见且严重的并发症,了解其发病机制并找到一种行之有效的预防策略是至关重要的。
研究表明,白内障术后眼内炎大多数是由细菌引起的,其主要致病菌包括表皮葡萄球菌、金黄色葡萄球菌和链球菌等。而后囊膜混浊是由白内障术后残留晶状体上皮细胞在多种生长因子和细胞因子的刺激下迅速生长并从原来的位置迁移到晶状体后囊膜所引起,以往的研究表明,晶状体上皮细胞的上皮-间质转分化是后囊膜混浊的主要发病机制,晶状体上皮细胞的形态、极性和迁移能力在此发展过程中都发生了变化。有研究者尝试通过对人工晶状体进行重新设计或表面修饰,或添加载药装置来预防白内障术后眼内炎及后囊膜混浊的发生。中国专利CN103156708A报道了在人工晶体上襻上镶嵌药物缓释微囊实现对疾病的预防;中国专利CN1701769A运用表面磷脂修饰技术将人工晶状体的前表面改造为亲水性,通过减少细菌以及细胞附着的方式以达到预防后囊膜混浊和抗菌的目的;此外还有报道人工晶状体(药物)涂层制备技术:利用浸涂法在人工晶状体上固定胰蛋白酶(中国专利CN 103099706A)抑制后发白内障;利用气相沉积法(Gas-phase Deposition)在人工晶状体上固定α-烯丙基葡萄糖苷(中国专利CN 1460524A)进行药物治疗,固定二氧化钛(中国专利CN 1833618A)进行光催化治疗,负载基因药物(中国专利CN 104825249A)进行基因治疗,固定金纳米棒(中国专利CN106215236A)进行光热治疗,固定铁基磁性纳米颗粒(中国专利CN 106492287A)进行磁热治疗,最终实现预防和抑制后发白内障的目的。以上方式虽然能够在一定程度上对并发症的防治产生一定作用,但仍有一些缺点:1)在人工晶体襻上负载释药装置而进行的结构改造极大的损害了其结构强度;2)在人工晶体光学区进行的表面修饰或者负载药物极大的影响了其光学性能;3)难以控制装置的载药量与释放速度,因此药物的有效性和安全性无法得到保证;4)人工晶状体药物涂层制备存在着制备工序复杂,速度缓慢,效率低下,涂层总量偏少,涂层质量不易控制,也难以定制涂层形状等劣势。5)为人工晶状体增加光催化物质或抗体涂层均对抑制细胞或细菌增殖有一定作用,但其作用范围较小,效果受涂层稳定性的影响大。
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