[发明专利]一种集成电路的调整方法、装置、存储介质及终端设备

权利要求书

1.一种集成电路的调整方法，其特征在于，所述方法包括：

获取集成电路对应的特征信息，其中，所述特征信息包括集成电路的电路版图对应的位置参量以及集成电路对应的光电特性；

基于所述特征信息，确定所述位置参量对应的调整参量；

基于所述调整参量对所述位置参量进行调整以得到目标位置参量，以基于所述目标位置参量确定调整后的集成电路。

2.根据权利要求1所述集成电路的调整方法，其特征在于，所述基于所述特征信息，确定所述位置参量对应的调整参量具体包括：

获取所述光电特性对应的误差值；

基于所述误差值及所述位置参量，确定所述位置参量对应的调整参量。

3.根据权利要求2所述的集成电路的调整方法，其特征在于，所述获取所述光电特性对应的误差值具体包括：

获取所述集成电路对应的光电特性限制条件，并基于所述光电特性限制条件确定所述集成电路对应的目标函数；

基于所述目标函数，确定所述光电特性对应的误差值。

4.根据权利要求3所述的集成电路的调整方法，其特征在于，所述基于所述误差值及所述位置参量，确定所述位置参量对应的调整参量具体包括：

对于位置参量中的每个位置参量项，基于所述误差值以及所述目标函数确定该位置参量项对应的梯度值，并基于该梯度值确定该位置参量项对应的调整参量项；

获取到的所有调整参量项构成所述位置参量对应的调整参量。

5.根据权利要求3所述的集成电路的调整方法，其特征在于，所述光电特性包括若干光电参数，所述光电特性限制条件包括若干光电参数中部分光电参数对应的下门限阈值。

6.根据权利要求1所述的集成电路的调整方法，其特征在于，所述基于所述调整参量对所述位置参量进行调整以得到目标位置参量具体包括：

对于位置参量中的每个位置参量项，在调整参量中确定该位置参量项对应的调整参量项；

确定所述位置参量项与所述调整参量项的元素和，并将该元素和作为该位置参量项对应的目标位置参量项；

将所有目标位置参量项构成的位置参量作为目标位置参量。

7.根据权利要求1-6任一所述的集成电路的调整方法，其特征在于，所述基于所述调整参量对所述位置参量进行调整以得到目标位置参量，以基于所述目标位置参量确定调整后的集成电路之后，所述还方法包括：

获取所述目标位置参量对应的目标光电特性，并保存所述目标位置参量与目标光电特性构成的电路参数对。

8.根据权利要求7所述的集成电路的调整方法，其特征在于，所述获取所述目标位置参量对应的目标光电特性，并保存所述目标位置参量与目标光电特性构成的电路参数对之后，所述方法还包括：

基于预设的期望光电特性，在预存的若干电路参数对中选取所述期望光电特征对应的目标电路参数对；

基于所述目标电路参数对中的目标位置参量，确定所述期望光电特性对应的集成电路。

9.根据权利要求8所述的集成电路的调整方法，其特征在于，基于预设的期望光电特性，在预存的若干电路参数对中选取所述期望光电特征对应的目标电路参数对具体包括：

获取所述期望光电特性对应的权重系数集，其中，所述权重系数集包括期望光电特性中的各光电参数各自对应的权重系数；

基于所述期望光电特性及所述权重系数集，在所述若干电路参数对中选取目标电路参数对。

10.根据权利要求9所述的集成电路的调整方法，其特征在于，所述预存的若干电路参数对以KD树形式存储。