[发明专利]一种集成电路的调整方法、装置、存储介质及终端设备

说明书

本申请公开了一种集成电路的调整方法、装置、存储介质及终端设备，所述方法包括获取集成电路对应的特征信息，基于所述特征信息，确定所述位置参量对应的调整参量；基于所述调整参量对所述位置参量进行调整以得到目标位置参量，以基于所述目标位置参量确定调整后的集成电路，这样基于光电特性自动调整位置参数，以实现自动调整电路版图，从而可以提高电路版图的设计效率，从而可以提高集成电路的生产效率。

技术领域

本申请涉及集成电路技术领域，特别涉及一种集成电路的调整方法、装置、存储介质及终端设备。

背景技术

电子设计自动化(Electronic Design Automation，EDA)被广泛应用于电路设计领域，通过电子设计自动化使得电路的设计更加高效。然而，在TFT电路设计领域，在TFT版图设计的过程普遍需要专业人员操作软件进行绘图，这使得TFT电路设计对人力依赖大，从而造成生产效率低。

发明内容

本申请要解决的技术问题在于，针对现有技术的不足，提供一种集成电路的调整方法、装置、存储介质及终端设备。

为了解决上述技术问题，本申请实施例第一方面提供了一种集成电路的调整方法，所述方法包括：

获取集成电路对应的特征信息，其中，所述特征信息包括集成电路的电路版图对应的位置参量以及集成电路对应的光电特性；

基于所述特征信息，确定所述位置参量对应的调整参量；

基于所述调整参量对所述位置参量进行调整以得到目标位置参量，以基于所述目标位置参量确定调整后的集成电路。

所述集成电路的调整方法，其中，所述基于所述特征信息，确定所述位置参量对应的调整参量具体包括：

获取所述光电特性对应的误差值；

基于所述误差值及所述位置参量，确定所述位置参量对应的调整参量。

所述集成电路的调整方法，其中，所述获取所述光电特性对应的误差值具体包括：

获取所述集成电路对应的光电特性限制条件，并基于所述光电特性限制条件确定所述集成电路对应的目标函数；

基于所述目标函数，确定所述光电特性对应的误差值。

所述集成电路的调整方法，其中，所述基于所述误差值及所述位置参量，确定所述位置参量对应的调整参量具体包括：

对于位置参量中的每个位置参量项，基于所述误差值以及所述目标函数确定该位置参量项对应的梯度值，并基于该梯度值确定该位置参量项对应的调整参量项；

获取到的所有调整参量项构成所述位置参量对应的调整参量。

所述集成电路的调整方法，其中，所述光电特性包括若干光电参数，所述光电特性限制条件包括若干光电参数中部分光电参数对应的下门限阈值。

所述集成电路的调整方法，其中，所述基于所述调整参量对所述位置参量进行调整以得到目标位置参量具体包括：

对于位置参量中的每个位置参量项，在调整参量中确定该位置参量项对应的调整参量项；

确定所述位置参量项与所述调整参量项的元素和，并将该元素和作为该位置参量项对应的目标位置参量项；

将所有目标位置参量项构成的位置参量作为目标位置参量。

所述集成电路的调整方法，其中，所述基于所述调整参量对所述位置参量进行调整以得到目标位置参量，以基于所述目标位置参量确定调整后的集成电路之后，所述方法包括：

获取所述目标位置参量对应的目标光电特性，并保存所述目标位置参量与目标光电特性构成的电路参数对。