[发明专利]高功率/能量激光测量系统及其杂光抑制方法

权利要求书

1.高功率/能量激光测量系统，包括依次设置在入射的高功率/能量激光(1)光路上的取样衰减单元(2)、光学探测通道(3)；所述取样衰减单元(2)用于实现被测高功率/能量激光(1)的取样及衰减；所述光学探测通道(3)用于实现所述高功率/能量激光(1)的参数测量；在所述光学探测通道(3)上设置有探测靶面(5)；

其特征在于：

所述探测靶面(5)的至少一个光学共轭位置处设置有杂光吸收体(8)；

还包括焦面小孔(4)和剩余光吸收体(6)；

所述焦面小孔(4)设置在所述光学探测通道(3)的焦面上；

所述剩余光吸收体(6)用于吸收经取样衰减单元(2)衰减后的剩余光。

2.根据权利要求1所述的高功率/能量激光测量系统，其特征在于：所述探测靶面(5)的所有光学共轭位置处均设置有杂光吸收体(8)。

3.根据权利要求1或2所述的高功率/能量激光测量系统，其特征在于：所述杂光吸收体(8)为吸收玻璃，吸收玻璃的材质根据待吸收的激光波长选用，吸收玻璃的厚度根据系统所需杂光吸收量确定。

4.根据权利要求3所述的高功率/能量激光测量系统，其特征在于：所述杂光吸收体(8)的表面做毛化处理。

5.高功率/能量激光测量系统的杂光抑制方法，所述高功率/能量激光测量系统包括依次设置在入射的高功率/能量激光(1)光路上的取样衰减单元(2)和光学探测通道(3)；所述取样衰减单元(2)用于实现被测高功率/能量激光(1)的取样及衰减；所述光学探测通道(3)用于实现所述高功率/能量激光(1)的参数测量；在所述光学探测通道(3)上设置有探测靶面(5)；

其特征在于，所述杂光抑制方法为：

在所述探测靶面(5)的至少一个光学共轭位置处设置有杂光吸收体(8)；

在所述光学探测通道(3)的焦面上设置焦面小孔(4)和在高功率/能量激光测量系统的取样衰减单元(2)附近设置用于吸收经取样衰减单元(2)衰减后的剩余光的剩余光吸收体(6)。

6.根据权利要求5所述的高功率/能量激光测量系统的杂光抑制方法，其特征在于：在所述探测靶面(5)的所有光学共轭位置处均设置有杂光吸收体(8)。

7.根据权利要求6所述的高功率/能量激光测量系统的杂光抑制方法，其特征在于：对所述杂光吸收体(8)的表面做毛化处理。