[发明专利]高功率/能量激光测量系统及其杂光抑制方法

说明书

为了解决逃逸出来的光能会在测量仪器内部形成本底辐照进而会降低探测系统的探测信噪比的技术问题，本发明提供了高功率/能量激光测量系统及其杂光抑制方法。本发明在高功率/能量激光测量系统中光学探测通道的探测靶面的至少一个光学共轭位置处设置有杂光吸收体，可显著降低高功率/能量激光测量系统内部杂光对探测靶面的影响，大大提高高功率/能量激光测量系统的探测信噪比。

技术领域

本发明属于激光测量技术领域，涉及一种高功率/能量激光测量系统及其杂光抑制方法。

背景技术

在高功率/能量激光测量系统中，由于探测器（例如CCD相机）的响应能量需求和注入测量系统的激光能量存在巨大的量级差异，在万瓦/焦耳级高功率/能量激光测量系统中，该差异可达10⁹级别。为了实现注入能量与探测响应能量之间的动态范围匹配，通常会在系统中设置各类光能衰减环节，其目的在于将多余的光能管理吸收，但受限于吸收材料的性能及仪器体积（仪器内部不可能布满吸收材料），很难做到100%完全管理吸收废弃杂光，必然还有剩余的光能逃逸出来，逃逸出来的光能在测量仪器的箱体内壁漫反射，最终在测量仪器内部形成本底辐照，该本底辐照最终可经过探测光学系统进入到探测器的接收面，形成干扰源，从而降低探测的信噪比，严重的会导致系统无法正常工作。

发明内容

为了解决逃逸出来的光能会在测量仪器内部形成本底辐照进而会降低探测系统的探测信噪比的技术问题，本发明提供了高功率/能量激光测量系统及其杂光抑制方法。

本发明的技术方案是：

高功率/能量激光测量系统，包括取样衰减单元、光学探测通道；取样衰减单元用于实现被测高功率/能量激光的取样及衰减；所述光学探测通道用于实现所述高功率/能量激光的参数测量；在所述光学探测通道上设置有探测靶面；

其特殊之处在于：

所述探测靶面的至少一个光学共轭位置处设置有杂光吸收体。

进一步地，所述探测靶面的所有光学共轭位置处均设置有杂光吸收体。

进一步地，还包括焦面小孔；所述焦面小孔设置在所述光学探测通道的焦面上。

进一步地，还包括剩余光吸收体，所述剩余光吸收体用于吸收经取样衰减单元衰减后的剩余光。

进一步地，所述杂光吸收体为吸收玻璃，吸收玻璃的材质根据待吸收的激光波长选用，吸收玻璃的厚度根据系统所需杂光吸收量确定。

进一步地，所述杂光吸收体的表面做毛化处理。

本发明还提供了一种高功率/能量激光测量系统的杂光抑制方法，所述高功率/能量激光测量系统包括光学探测通道；所述光学探测通道用于实现所述高功率/能量激光的参数测量；在所述光学探测通道上设置有探测靶面；

其特殊之处在于，所述杂光抑制方法为：

在所述探测靶面的至少一个光学共轭位置处设置有杂光吸收体。

进一步地，在所述探测靶面的所有光学共轭位置处均设置有杂光吸收体。

进一步地，对所述杂光吸收体的表面做毛化处理。

进一步地，在所述光学探测通道的焦面上设置焦面小孔和/或在高功率/能量激光测量系统的取样衰减单元附近设置用于吸收经取样衰减单元衰减后的剩余光的剩余光吸收体。

本发明的有益效果：

本发明可显著降低高功率/能量激光测量系统内部杂光对探测靶面的影响，大大提高高功率/能量激光测量系统的探测信噪比。

附图说明

图1是本发明的实施示意图。

附图标记说明：