[发明专利]基站和驱动轮以及由基站和地面处理设备组成的系统

权利要求书

1.一种基站(1)，用于实施对地面处理设备(2)的维护操作，其中，所述基站(1)具有基础壳体(3)，所述基础壳体具有用于对接地面处理设备(2)的接口(4)，其特征在于，所述基站(1)具有配属于所述接口(4)的导引托架(6)，所述导引托架通过占大部分的纵向延伸部(5)背离所述基础壳体(3)地指向，以便仅机械地导引所述地面处理设备(2)朝所述接口(4)的对接运动，其中，所述导引托架(6)的在竖向的俯视观察中的外轮廓(7)从所述基础壳体(3)开始直至所述导引托架(6)的远离所述基础壳体(3)的自由端部区域(8)收窄。

2.根据权利要求1所述的基站(1)，其特征在于，设有能够被所述地面处理设备(2)驶过的底板(9)，所述导引托架(6)构造或布置在所述底板上。

3.根据权利要求1或2所述的基站(1)，其特征在于，所述导引托架(6)的端部区域(8)参照水平的视图具有向外指向的辅助斜面(10)。

4.一种用于自主行进的地面处理设备(2)的驱动轮(11)，所述驱动轮具有容纳驱动轴(12)的轮体(13)和沿周向在所述轮体(13)上构造的作业运行面(14)，其特征在于，所述轮体(13)具有同中心地从轮体端侧(15)突伸出的柱形的接触元件(16)，所述接触元件具有沿周向在所述接触元件(16)上构造的接触面(17)，其中，所述接触面(17)的接触面直径(D₂)小于所述作业运行面(14)的作业运行面直径(D₁)。

5.根据权利要求4所述的驱动轮(11)，其特征在于，所述接触面直径(D₂)等于所述作业运行面直径(D₁)的70％至90％。

6.根据权利要求4所述的驱动轮(11)，其特征在于，所述接触面直径(D₂)等于所述作业运行面直径(D₁)的80％。

7.根据权利要求4或5所示的驱动轮(11)，其特征在于，所述接触元件(16)的接触面(17)沿轴向具有2mm至10mm的接触面宽度(B₁)。

8.一种由根据权利要求1构造的基站(1)和自主行进的地面处理设备(2)组成的系统，所述地面处理设备具有至少两个驱动轮(11)，其中，至少一个驱动轮(11)根据权利要求4所述地构造并且在朝向其它驱动轮(11)的轮体端侧(15)上具有接触元件(16)。

9.根据权利要求8所述的系统，其特征在于，两个相互对置的驱动轮(11)的轮体端侧(15)的与作业运行面(14)邻接的边缘区域彼此间具有轴向距离(A)，所述轴向距离大于导引托架(6)的外轮廓(7)的垂直于纵向延伸部(5)定向的最大外轮廓宽度(B₂)，从而使所述导引托架(6)能够容纳在驱动轮(11)之间。

10.根据权利要求8或9所述的系统，其特征在于，所述导引托架(6)的纵向延伸部(5)的尺寸至少等于所述地面处理设备(2)的两个同中心地布置的驱动轮(11)之间的轴向距离(A)。

11.根据权利要求8或9所述的系统，其特征在于，所述导引托架(6)的竖直高度(H)大于接触面直径(D2)与作业运行面直径(D1)之间的直径差的一半，从而当接触面(17)在所述导引托架(6)上滚动时，所述地面处理设备(2)的驱动轮(11)不再支承在作业运行面(14)上。