[发明专利]曝光装置以及物品制造方法

权利要求书

1.一种对基板进行曝光的曝光装置，其特征在于，具有：

投影光学系统，将原版的图案投影到所述基板；

腔，收容所述投影光学系统；

遮板，在曝光中关闭为了搬送基板而设置于所述腔的开口部；以及

调整部，调整利用所述遮板的来自所述腔的外部的声音的衰减效果。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述遮板包括遮板部件，该遮板部件具备放入液体的容器，

所述调整部通过调整所述容器中的液体的量来调整所述衰减效果。

3.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述遮板包括声音的衰减性能相互不同的第1遮板部件和第2遮板部件，

所述调整部为了关闭所述开口部而使所述第1遮板部件和所述第2遮板部件中的某一方动作，从而调整所述衰减效果。

4.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，

所述调整部在第1调整状态与第2调整状态之间变更调整状态，该第1调整状态是在第1频带中所述衰减效果低且在比所述第1频带高的第2频带中所述衰减效果高的状态，该第2调整状态是在所述第1频带中所述衰减效果高且在所述第2频带中所述衰减效果低的状态。

5.根据权利要求4所述的曝光装置，其特征在于，具有：

音波传感器，配置于所述开口部的附近；

处理部，处理由所述音波传感器检测出的声音；以及

控制部，根据由所述处理部处理所述声音的结果，控制所述调整部，

所述处理部进行由所述音波传感器检测出的声音的频率分析，在通过所述频率分析得到的功率谱中检测功率成为最大的第1频率，

所述控制部在所述第1频率高于预定的阈值的情况下，控制所述调整部以成为所述第1调整状态，否则，控制所述调整部以成为所述第2调整状态。

6.根据权利要求4所述的曝光装置，其特征在于，具有：

音波传感器，配置于所述开口部的附近；

处理部，处理由所述音波传感器检测出的声音；以及

控制部，根据由所述处理部处理所述声音的结果，控制所述调整部，

所述处理部通过进行由所述音波传感器检测出的所述声音的频率分析来取得功率谱，计算作为所述第1频带中的所述功率谱的积分值的第1积分值、和作为所述第2频带中的所述功率谱的积分值的第2积分值，

所述控制部在所述第2积分值大于所述第1积分值的情况下，控制所述调整部以成为所述第1调整状态，否则，控制所述调整部以成为所述第2调整状态。

7.根据权利要求4所述的曝光装置，其特征在于，具有：

受光传感器，检测通过所述投影光学系统的曝光光；

处理部，处理由所述受光传感器检测出的所述曝光光；以及

控制部，根据由所述处理部处理所述曝光光的结果，控制所述调整部，

所述处理部通过进行由所述受光传感器检测出的所述曝光光的频率分析来取得功率谱，计算作为所述第1频带中的所述功率谱的积分值的第1积分值、和作为所述第2频带中的所述功率谱的积分值的第2积分值，

所述控制部在所述第2积分值大于所述第1积分值的情况下，控制所述调整部以成为所述第1调整状态，否则，控制所述调整部以成为所述第2调整状态。

8.一种物品制造方法，其特征在于，包括：

使用权利要求1至7中的任意一项所述的曝光装置对基板进行曝光的工序；以及

使在所述工序中曝光后的所述基板显影的工序，

所述物品制造方法根据显影后的所述基板制造物品。