[发明专利]曝光装置以及物品制造方法

说明书

本公开涉及曝光装置以及物品制造方法。提供具有有利于减轻光学系统的振动的构造的曝光装置。对基板进行曝光的曝光装置具有：投影光学系统，将原版的图案投影到所述基板；腔，收容所述投影光学系统；遮板，在曝光中关闭为了搬送基板而设置于所述腔的开口部；以及调整部，调整利用所述遮板的来自所述腔的外部的声音的衰减效果。

技术领域

本发明涉及曝光装置以及物品制造方法。

背景技术

在作为半导体设备、液晶面板等的制造工序的光刻工序中，使用将形成于原版的图案经由投影光学系统转印到基板的曝光装置。在曝光装置中，在包围投影光学系统的腔中设置有基板搬送用的开口部，经由该开口部，搬送从收纳基板的保管用盒取出的基板。在保管用盒和基板搬送用的开口部中，设置仅在搬送时打开的遮板，从而防止尘土附着到基板、尘土侵入到曝光装置内。

在专利文献1中，公开为了抑制尘土由于气流的扰动附着到基板而关闭遮板的方法。在专利文献2中，公开在保管用盒中包括具有密闭功能的遮板，在搬出时以外关闭遮板的方法。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2011-243759号公报

专利文献2：国际公开第2007/114293号

发明内容

随着半导体设备、液晶面板的高精细化发展，要求减轻影响曝光精度的光学系统的振动。作为光学系统的振动的主要原因，可以举出从基板搬送用的开口部进入的噪音。因此，为了切断这样的噪音，考虑在曝光中关闭基板搬送用的开口部。

但是，以往的关闭开口部的遮板仅用于防尘，所以隔音性能低，无法减轻光学系统的振动。另外，根据曝光装置的设置环境，进入到装置内的环境音不同，所以需要与环境音对应的隔音性能。

本发明的目的在于例如提供一种具有有利于减轻光学系统的振动的构造的曝光装置。

根据本发明的第1侧面，提供一种对基板进行曝光的曝光装置，其特征在于，具有：投影光学系统，将原版的图案投影到所述基板；腔，收容所述投影光学系统；遮板，在曝光中关闭为了搬送基板而设置于所述腔的开口部；以及调整部，调整利用所述遮板的来自所述腔的外部的声音的衰减效果。

根据本发明的第2侧面，提供一种物品制造方法，其特征在于，包括：使用上述第1侧面所涉及的曝光装置对基板进行曝光的工序；以及使在所述工序中曝光后的所述基板显影的工序，根据显影后的所述基板制造物品。

根据本发明，例如，能够提供具有有利于减轻光学系统的振动的构造的曝光装置。

附图说明

图1是示出曝光装置的结构的图。

图2是示出遮板的结构的图。

图3是遮板的控制框图。

图4是遮板控制以及曝光处理的流程图。

图5是示出遮板的结构的图。

图6是遮板的控制框图。

图7是遮板控制以及曝光处理的流程图。

图8是示出遮板的结构的图。

图9是遮板的控制框图。

图10是遮板控制以及曝光处理的流程图。

图11是遮板控制以及曝光处理的流程图。

图12是例示在功率谱中关注的频带的图。

图13是示出曝光装置的结构的图。

图14是遮板的控制框图。