[发明专利]半导体装置结构在审

专利信息
申请号: 202011313026.3 申请日: 2020-11-20
公开(公告)号: CN113555358A 公开(公告)日: 2021-10-26
发明(设计)人: 游家权;朱熙甯;江国诚;王志豪 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/088 分类号: H01L27/088;H01L27/092
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 徐金国
地址: 中国台湾新竹市*** 国省代码: 台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 半导体 装置 结构
【权利要求书】:

1.一种半导体装置结构,其特征在于,包含:

一第一栅极电极层;

一第二栅极电极层,相邻该第一栅极电极层;

一第三栅极电极层,相邻该第二栅极电极层;

一第一介电质特征部,置于该第一栅极电极层与该第二栅极电极层之间;

一第二介电质特征部,置于该第二栅极电极层与该第三栅极电极层之间;

一第一晶种层,接触该第一栅极电极层、该第一介电质特征部与该第二栅极电极层;

一第一导体层,置于该第一晶种层上;

一第二晶种层,接触该第三栅极电极层;

一第二导体层,置于该第二晶种层上;及

一介电质材料,置于该第二介电质特征部、该第一导体层与该第二导体层上,其中该介电质材料是在该第一晶种层与该第二晶种层之间且在该第一导体层与该第二导体层之间。

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