[发明专利]一种聚二甲基硅烷材料及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202011329338.3 申请日: 2020-11-24
公开(公告)号: CN112538165A 公开(公告)日: 2021-03-23
发明(设计)人: 黄力峰;黄清芊;刘燕鹏;刘周东;陈家煌;刘炯洋 申请(专利权)人: 福建立亚化学有限公司
主分类号: C08G77/60 分类号: C08G77/60
代理公司: 北京立成智业专利代理事务所(普通合伙) 11310 代理人: 奚益民
地址: 362804 福建省泉州市*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 甲基 硅烷 材料 及其 制备 方法
【说明书】:

发明公开了一种聚二甲基硅烷材料,按重量份计由如下组分制成:氯化钠100份,二甲基二氯硅烷113份,无水乙醇326份,纯净水705份。本发明采用纯净水、无水乙醇对聚二甲基硅烷的杂质进行溶解去除,以得到纯净的聚二甲基硅烷,氯化钠能溶解在水里,而聚二甲基硅烷不溶于水及乙醇等有机溶剂,而无水乙醇与两者的可以任意互溶,利用这些特性,先用纯净水溶解洗去聚二甲基硅烷中的氯化钠,再用无水乙醇脱除水,再采用纯净水反复清洗,可以得到纯净的聚二甲基硅烷,从而使得本发明制得的聚二甲基硅烷具有含氧量低的特点,含氧量≤0.2%;本发明制得的聚二甲基硅烷具有高纯度、杂质低、Na元素含量低(≤20ppm)。

技术领域

本发明涉及聚二甲基硅烷的技术领域,尤其涉及一种聚二甲基硅烷材料及其制备方法。

背景技术

聚二甲基硅烷是一种主链由硅原子组成的高分子材料。由于Si的低电负性并具有3d空轨道,因此,电子可沿着Si-Si主链广泛离域,同时它还含有丰富的Si-H键,从而使聚二甲基硅烷在光电导、发光二极管、非线性光学材料以及SiC陶瓷制备和功能材料方面均具有非常好的应用前景。聚二甲基硅烷作为一种新型功能高分子材料,对其进行研究不论是理论上还是实践上都有重要的意义,聚二甲基硅烷化学已成为有机硅领域中的一个热点,对它的研究十分活跃。随着研究的不断深入,聚二甲基硅烷有望在许多领域里得到更为广泛的应用。

聚碳硅烷(PCS)是碳化硅陶瓷纤维的关键原材料。聚二甲基硅烷(PDMS)是制造聚碳硅烷PCS的中间体,碳化硅纤维的单丝直径约为10~20μm,并且需要有较高的强度≥2.8GP,因此需要PCS、PDMS所含的杂质越少越好,氧含量低。而在PCS的合成反应中,往往会有Na元素、氧含量高、硅油和其他一些杂质存在,因此急需寻找氧含量低(≤0.2%),Na元素含量低(≤30ppm)的聚二甲基硅烷先驱体材料是很有必要的。

发明内容

针对上述问题,本发明提供了一种聚二甲基硅烷材料及其制备方法。

为解决上述技术问题,本发明所采用的技术方案是:一种聚二甲基硅烷材料,按重量份计由如下组分制成:氯化钠100份,二甲基二氯硅烷113份,无水乙醇326份,纯净水705份。

本发明还提供了一种聚二甲基硅烷材料的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

(1)取100份的氯化钠进行电解并油浴加热,经过提纯成型,后往熔融的金属钠中加入113份的二甲基二氯硅烷进行反应,高温下搅拌熟化,即得反应物;

(2)在步骤(1)中所得的反应物中加入104份的无水乙醇,控制温度并持续搅拌,蒸发提取氯化钠进行回收利用,在惰性环境下对反应后的混合物进行真空抽滤;

(3)在步骤(2)中所得的混合物中分别加入705份纯净水和222份无水乙醇进行多次清洗,以获得纯净的聚二甲基硅烷;

(4)将步骤(3)获得的纯净的聚二甲基硅烷进行真空干燥,以获得真空干燥后的聚二甲基硅烷的含氧量≤0.2%、Na元素含量≤20ppm。

优选的,在步骤(1)中通过电解法制得金属钠所采用的具体步骤为:采用氯化钠通电方式,将40个电解槽安排在一组内,以串联方式操作,工作电压7~8V、工作电流24~40KA、电解温度600℃,以石墨作为阳极、铁作为阴极,通过电解在阴极生成金属钠,在阳极生成氯气。

优选的,在步骤(2)中,需要在惰性气体的保护下,将无水乙醇以110L/h的滴加速度滴入到反应物中进行反应,温度控制在5℃~20℃,搅拌3~5小时。

优选的,在步骤(3)中,清洗过程的具体步骤为:先往混合物中先加入222份的无水乙醇进行清洗,然后加入358份的纯净水进行二次清洗,接着分别加入两次的170份的纯净水进行三次清洗、四次清洗,即获得纯净的聚二甲基硅烷;其中,整个清洗过程需要真空抽滤,清洗时间为0.3~0.8小时。

优选的,所述惰性气体为氮气。

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