[发明专利]一种结晶器铜板镀层材料在审

专利信息
申请号: 202011329981.6 申请日: 2020-11-24
公开(公告)号: CN112371934A 公开(公告)日: 2021-02-19
发明(设计)人: 赵玉平 申请(专利权)人: 赵玉平
主分类号: B22D11/059 分类号: B22D11/059;C25D3/56;C25D5/34
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215300 江苏省苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 结晶器 铜板 镀层 材料
【权利要求书】:

1.一种结晶器铜板镀层材料,其特征在于所述结晶器铜板镀层材料由上至下依次为结晶器铜板、过渡中间层、镍基钴复合镀层,其中所述过渡中间层通过结晶器铜板原位电化学腐蚀获得,且为多孔结构,过渡中间层所述镍基钴复合镀层通过电化学沉积涂覆,所述镍基钴复合镀层与结晶器铜板的结合力为12-13N/cm2,所述镀层材料的维氏硬度为410-415HV,所述过渡中间层的厚度为2-3微米,所述的镍基钴复合镀层的厚度为25-30微米。

2.如权利要求1所述的一种结晶器铜板镀层材料,其特征在于所述原位电化学腐蚀参数如下:以铜板为阳极,惰性电极为阴极,以50-80g/L氢氧化钾和1-3g/LNa2SiO3混合液为电解液,温度为30-40oC进行原位电化学腐蚀,具体过程为:开启电源,铜板为阳极,反应时间为2-5min,电流密度1.5-2.0A/dm2,关闭电源,超声搅拌15s,开启并切换电源正负极方向,铜板为阴极,反应时间为5-8min,电流密度0.2-0.5A/dm2,关闭超声搅拌30s。

3.如权利要求2所述的一种结晶器铜板镀层材料,其特征在于开启电源-关闭电源-切换电源-关闭电源为一个循环,循环次数为3-5次,总的碱性电化学腐蚀处理时间不大于40min。

4.如权利要求1所述的一种结晶器铜板镀层材料,其特征在于所述原位电化学腐蚀前对结晶器铜板进行预处理,预处理为机械打磨-除油脱脂-热水洗-冷水洗-酸活化-碱洗-水洗。

5.如权利要求4所述的一种结晶器铜板镀层材料,其特征在于所述机械打磨为使用2000目砂纸打磨,所述除油脱脂为:25g/LNa2CO3、10g/LNaOH、50g/LNa3PO4.12H2O、7g/LNa2SiO3,温度70~80oC,时间10min,所述酸活化10wt.%H2SO4,时间50s,碱洗液为10wt.%碳酸钠,时间60s。

6.如权利要求1所述的一种结晶器铜板镀层材料,其特征在于所述原位电化学腐蚀后进行高温退火还原。

7.如权利要求7所述的一种结晶器铜板镀层材料,其特征在于所述高温退火还原参数为:5vol.%氢气/氮气混合气,以5oC/min的升温速率升至650oC,保温2-3h,除去热源,继续通入混合气,自然冷却。

8.如权利要求1所述的一种结晶器铜板镀层材料,其特征在于所述电化学沉积使用的电镀液由NiSO4.6H2O、CoSO4.7H2O、 H3BO3、氯苯甲醛、1,3-丙二硫醇、丁炔醇醚丙烷磺酸钠和二乙烯三胺五乙酸钠组成。

9.如权利要求8所述的一种结晶器铜板镀层材料,其特征在于所述电镀液组成:

NiSO4.6H2O:260g/L-300g/L;

CoSO4.7H2O:10-20g/L;

H3BO3:20-30g/L;

氯苯甲醛:1-3g/L;

1,3-丙二硫醇:1-2g/L;

丁炔醇醚丙烷磺酸钠:0.5-1.5g/L;

二乙烯三胺五乙酸钠:1-3g/L

余量去离子水。

10.如权利要求1所述的一种结晶器铜板镀层材料,其特征在于所述电化学沉积的电解参数如下:电流密度2-5A/dm2,pH为3-5,温度40-45oC,时间30-50min,磁力搅拌200-300rpm。

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