[发明专利]无光陶瓷釉用低温熔块及利用该低温熔块制备无光釉陶瓷制品的制备工艺

说明书

本发明提供无光陶瓷釉用低温熔块及利用该低温熔块制备无光釉陶瓷制品的制备工艺，属于陶瓷技术领域。本发明的陶瓷无光釉由氧化硅、低温熔块、氧化铝、氧化钠、氧化钾、氧化钙、氧化锂、氧化硼、氧化钡及颜料组成，低温熔块由以下重量百分含量的原料组成：高岭土22~25%、硅酸钠9~15%、硝酸锌8~9%、透辉石8~10%、钛酸铝9~10%、钡长石7~8%、石英5~9%、二苯甲酮6~7%、硼钠钙石5~8%、萤石7~8%、硼砂2~3%。采用本发明提供的无光釉原料与工艺制得的无光釉陶瓷制品，其釉面滋润、细腻且具备一定的硬度、耐磨性与抗水性。

本申请为发明创造名称为《一种陶瓷无光釉及利用其制备无光釉陶瓷制品的工艺》的发明专利申请的分案申请，原申请的申请日为2017-11-28，申请号为201711218445.7。

技术领域

本发明属于陶瓷技术领域，具体涉及一种无光陶瓷釉用低温熔块及利用该低温熔块制备无光釉陶瓷制品的制备工艺。

背景技术

无光釉是指呈丝光或玉石状光泽而无强烈反射光的釉，这种釉施于艺术陶瓷上，可获得较佳的效果，在中国古代最具代表性的为哥窑，其颜色有米白、粉青、灰绿、奶酪黄等色。无光釉通常在烧制过程中采用透明釉析出微晶的方法来生成，无光釉的原料与工艺对其成釉效果具有较大的影响，市场上出现的普通无光釉陶瓷制品通常存在硬度低、耐磨性差或抗水性差等缺陷，因而，提供一种陶瓷无光釉。

发明内容

基于以上现有技术，本发明的目的在于提供一种无光陶瓷釉用低温熔块及利用该低温熔块制备无光釉陶瓷制品的制备工艺，采用本发明提供的原料与工艺制得的无光釉陶瓷制品，其釉面滋润、细腻，硬度高、耐磨性强、抗水性好，其光学性能优异，反射光强度低，不会产生光反射污染。

为了实现以上目的，本发明采用的技术方案为：一种陶瓷无光釉，包括以下重量份的组分：氧化硅35～45份、低温熔块30～37份、氧化铝18～26份、氧化钠5～12份、氧化钾5～10份、氧化钙5～10份、氧化锂5～10份、氧化硼5～10份、氧化钡1～4份、颜料8～17份。

作为优选，所述陶瓷无光釉包括以下重量份的组分：氧化硅40份、低温熔块34份、氧化铝22份、氧化钠8份、氧化钾7份、氧化钙8份、氧化锂7份、氧化硼8份、氧化钡3份、颜料12份。

所述低温熔块由以下重量百分含量的原料组成：高岭土20～25％、硅酸钠8～15％、硝酸锌8～12％、透辉石8～12％、钛酸铝8～10％、钡长石6～12％、石英5～10％、二苯甲酮4～10％、硼钠钙石5～8％、萤石5～8％、硼砂1～3％。

所述颜料为市场上常见的陶瓷釉用颜料，优选钴蓝颜料、钴绿颜料、锆镨黄颜料、锆钒蓝颜料、无钴黑颜料、铁红颜料、钛黄颜料。

本发明还提供一种使用无光陶瓷釉制备无光釉陶瓷制品的工艺，包括以下步骤：

步骤1、按照重量份分别称取各原料，备用；

步骤2、将各原料混合后加入占其总重量1.5～3倍的水后进行球磨，球磨后过500目筛得到釉水，其筛余量为0.5％以下；

步骤3、将步骤2中得到釉水的含水量调节为65～72％后对陶瓷坯体进行上釉，晾干后釉层厚度为0.5～2mm，接着进行高温烧制得到无光釉陶瓷制品。

作为优化，所述步骤2中进行球磨的速率为250～450r/min。

作为优化，所述步骤3中的陶瓷坯体为经750～900℃下素烧5小时得到的素坯。

作为优化，所述步骤3中上釉后进行高温烧制时采用的温度为1050～1150℃、烧制的时间为50～120分钟，烧结温度过高，会导致早期形成的无光釉重新溶解，这样熔解的釉中玻璃相增加，从而使无光釉变成光泽釉，烧成温度过低，则会导致生成的无光釉面不均匀、光泽暗淡且失去亚光效果。