[发明专利]抛光机及其抛光方法

说明书

本发明公开了一种抛光机，包括上机体与下机体，所述上机体包括上定盘组件，所述上定盘组件包括上定盘，所述上定盘的下表面设有抛光垫，所述下机体包括下定盘组件，所述下定盘组件包括下定盘和用于带动所述下定盘同时作方形运动和随机摇摆运动的驱动系统。本发明还提供一种上述的抛光机的抛光方法。本发明的抛光机的下定盘运动方式不同于传统的抛光机，由方形运动和随机摇摆运动叠加而成，摇摆运动的行程是随机的，每次摇摆的距离不相同，方形运动和随机摇摆运动这两种运动叠加后，可实现下定盘的运动轨迹完全不重复，可提高抛光工件的平面度和平行度。

技术领域

本发明属于玻璃加工设备领域，尤其涉及一种抛光设备及其抛光方法。

背景技术

匀胶铬版是一种硬面光掩模材料，即光掩膜基版，它是当前及未来微细加工光掩膜制作的主流感光材料（相当于照相用的感光胶卷）。它通过在平整的、高光洁度的玻璃基版上通过直流磁控溅射（SP）沉积上氮化铬-氮氧化铬薄膜而形成铬膜基版，再在其上涂敷一层光致抗蚀剂（又称光刻胶）或电子束抗蚀剂制成。

由于匀胶铬版对玻璃基版的平面度、平行度要求非常高，因此匀胶铬版生产的第一道抛光工序，是整个产品制作过程最基础的工序，也是最关键工序，抛光质量的好坏直接影响到整个产品的质量。现有技术中的抛光机在抛光时通常由下定盘带动上定盘做往复运动，利用该抛光机处理匀胶铬版的玻璃基版时，难以保证玻璃基版的平面度与平行度，急需研究开发一种保证抛光产品具有高平面度与平行度的抛光机。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是克服以上背景技术中提到的不足和缺陷，提供一种可以保证抛光产品具有高平面度与平行度的抛光机及其抛光方法。为解决上述技术问题，本发明提出的技术方案为：

一种抛光机，包括上机体与下机体，所述上机体包括上定盘组件，所述上定盘组件包括上定盘，所述上定盘的下表面设有抛光垫，所述下机体包括下定盘组件，所述下定盘组件包括下定盘和用于带动所述下定盘同时作方形运动和随机摇摆运动的驱动系统。本发明的抛光机中，将待抛光工件（如匀胶铬版的玻璃基版）放置于下定盘上，将抛光垫粘设于上定盘上，通过将上定盘移动至下定盘处，通过下定盘的运动，可以实现待抛光工件的抛光。

上述抛光机中，优选的，所述驱动系统包括第一驱动源、第二驱动源、动力转化机构、动力传递杆和轨道机构，所述第一驱动源、第二驱动源均与所述动力转化机构连接，所述动力传递杆一端与所述动力转化机构连接，所述动力传递杆另一端与所述轨道机构连接，所述轨道机构设于所述下定盘下方。本发明中，通过轨道结构的配合，第一驱动源用于产生使下定盘作方形运动的驱动力，第二驱动源用于产生使下定盘作随机摇摆运动的驱动力，且第二驱动源每次的驱动的行程随机产生，通过动力转化机构表现为下定盘每一次摇摆的幅度大小随机产生。上述第一驱动源、第二驱动源的驱动力通过动力转化机构组合、转化后通过动力传递杆传递至下定盘，下定盘相当于受到两个驱动力的作用，以带动下定盘在轨道机构上同时作方形运动和随机摇摆运动。

上述抛光机中，优选的，所述轨道机构包括底部过渡盘、Y方向移动导滑轨、中部过渡盘、X方向移动导滑轨和上部过渡盘，所述Y方向移动导滑轨设于所述底部过渡盘与中部过渡盘之间，所述X方向移动导滑轨设于中部过渡盘与上部过渡盘之间，所述上部过渡盘与所述下定盘的底部连接，所述底部过渡盘固定设置（固定设于下机体上），所述中部过渡盘活动设置，所述动力传递杆与所述上部过渡盘连接。在第一驱动源、第二驱动源、动力转化机构、动力传递杆的作用下，驱动下定盘在轨道结构上运动，由于轨道结构包括Y方向移动导滑轨和X方向移动导滑轨，下定盘故在驱动力下作方形运动和随机摇摆运动。

上述抛光机中，优选的，所述Y方向移动导滑轨包括导轨与滑轨，所述导轨设于所述底部过渡盘上，所述滑轨设于所述中部过渡盘上；所述X方向移动导滑轨包括导轨与滑轨，所述导轨设于所述中部过渡盘上，所述滑轨设于所述上部过渡盘上。