[发明专利]阵列基板及其制备方法、显示面板及装置

说明书

本发明公开了阵列基板及其制备方法、显示面板及装置，阵列基板包括像素电路，像素电路包括第一晶体管和第二晶体管，第一晶体管包括第一有源层，第二晶体管包括第二有源层，第一有源层和第二有源层均包括硅；阵列基板还包括第一类无机层、第二类无机层和第一过孔，第一过孔位于第一有源层上方且至少贯穿第二类无机层，第一有源层中的氢离子浓度小于第二有源层中的氢离子浓度。通过第一过孔对第一有源层进行高温制程，如此第一晶有源层中氢离子浓度小于第二有源层中的氢离子浓度，保证第一晶体管性能良好的同时减少第二晶体管的高温制程次数，保证第二晶体管亚阈值摆幅较小，关断特性良好，漏流小，保证像素电路整体特性良好。

技术领域

本发明实施例涉及显示技术领域，尤其涉及一种阵列基板及其制备方法、显示面板及装置。

背景技术

有机发光显示是目前手机、电视、电脑等显示器的主流技术。与传统的液晶显示相比，有机发光显示具有能耗低、成本低、自发光、视角宽及相应速度快等优点。因此，有机发光显示逐步成为主流显示技术。

由于有机发光显示属于电流驱动，需要稳定的电流来控制其发光，有机发光显示的驱动电流的大小及稳定性主要依赖于有机发光显示像素电路中驱动晶体管。因此现有技术中，有机发光显示的像素电路一般包括驱动晶体管和开关晶体管，并且驱动晶体管和开关晶体管可以为相同类型的晶体管。对于相同类型的驱动晶体管和开关晶体管来过，一般采用相同的工艺制备，具备相同的特性。但是，由于驱动晶体管和开关晶体管的作用不同，因此采用相同工艺制备得到的驱动晶体管和开关晶体管往往不能满足实际显示需求。

发明内容

本发明提供一种阵列基板及其制备方法、显示面板及装置，通过在阵列基板中对应驱动晶体管的位置增设第一过孔，可通过第一过孔仅对第一晶体管的有源层进行高温制程，在保证第一晶体管特性良好的同时保证第二晶体管关断特性良好，漏流小，保证像素电路整体特性良好。

第一方面，本发明实施例提供了一种阵列基板，包括：

衬底基板；

位于所述衬底基板一侧的像素电路，所述像素电路包括第一晶体管和第二晶体管，所述第一晶体管包括第一有源层，所述第二晶体管包括第二有源层，所述第一有源层和所述第二有源层包括硅；

所述阵列基板还包括位于所述第一有源层远离所述衬底基板一侧的第一类无机层和第二类无机层，所述第一类无机层位于靠近所述第一有源层的一侧，所述第二类无机层位于远离所述第一有源层的一侧；

所述阵列基板还包括第一过孔，所述第一过孔至少贯穿所述第二类无机层，所述第一有源层在所述衬底基板所在平面上的垂直投影覆盖所述第一过孔靠近所述第一有源层的一端在所述衬底基板所在平面上的垂直投影；

所述第一有源层中的氢离子浓度小于所述第二有源层中的氢离子浓度。

第二方面，本发明实施例还提供阵列基板的制备方法，用于制备第一方面提高的阵列基板，所述阵列基板包括像素电路，所述像素电路包括第一晶体管和第二晶体管，所述第一晶体管包括第一有源层，所述第二晶体管包括第二有源层，所述第一有源层和所述第二有源层均包括硅：

所述制备方法包括：

提供衬底基板；

在所述衬底基板一侧制备第一有源层和第二有源层；

在所述第一有源层远离所述衬底基板的一侧制备第一类无机层；

通过所述第一类无机层对所述第一有源层进行第一次加热制程；

在所述第一类无机层远离所述衬底基板的一侧制备第二类无机层；

制备第一过孔，所述第一过孔至少贯穿所述第二类无机层，且所述第一有源层在所述衬底基板所在平面上的垂直投影覆盖所述第一过孔靠近所述第一有源层的一端在所述衬底基板所在平面上的垂直投影；