[发明专利]一种触控显示面板漏光分析方法和触控显示面板及制作方法

说明书

本发明公开了一种触控显示面板漏光分析方法，包括如下步骤：步骤S1：点亮触控显示面板，使之显示黑态画面；步骤S2：依次切断所述触控显示面板中的各类信号线，然后观察所述触控显示面板的漏光点在某一类信号线被切断后是否消失，若消失则判定漏光点的产生与该类信号线有关；步骤S3：根据漏光点的位置以及所述触控显示面板的膜层结构，分析被判定与漏光点的产生有关的信号线上产生干扰电场的位置。该触控显示面板漏光分析方法可快速准确地分析出所述触控显示面板中产生干扰电场的位置。本发明还公开了一种触控显示面板及制作方法。

技术领域

本发明涉及显示技术，尤其涉及一种触控显示面板漏光分析方法及触控显示面板及制作方法。

背景技术

如今，触控显示面板越来越流行，然而在实际使用中，常常发现触控显示面板存在漏光现象，影响了显示效果。

触控显示面板往往由于触控层和TFT层之间对位偏移或者其他结构缺陷而产生干扰电场，部分液晶分子受干扰电场的干扰而发生旋转，导致漏光问题的出现。现有技术中，为了解决漏光问题，常用的方法是对触控层偏位进行补偿，或者增加彩膜基板上的黑矩阵线宽来遮挡漏光，如果采用触控层偏位补偿的话，基板边缘区域就会变小，势必增加边缘走线的制程难度，如果通过加宽黑矩阵来遮挡的话，势必影响产品的透过率。

另外，如果想通过阵列基板上的金属线路遮光特性进行改善，就需要结合具体产品设计了，因为阵列基板主要承担了驱动显示的作用，对于TN、VA产品，阵列基板上的膜层相对较少，变更起来相对比较容易，比较容易判断、预测变更后的结果以及可能存在其他风险性的问题。但是，对于IPS以及LTPS产品，阵列基板上的膜层较多，容易“牵一发而动全身”，变更改善要全面评估、综合考虑，即使如此也容易发生遗漏项，造成预测外的结果，使得改善延期等。

发明内容

为了解决上述现有技术的不足，本发明提供一种触控显示面板漏光分析方法，可快速准确地分析出所述触控显示面板中产生干扰电场的位置。

本发明还提供一种触控显示面板及制作方法。

本发明所要解决的技术问题通过以下技术方案予以实现：

一种触控显示面板漏光分析方法，包括如下步骤：

步骤S1：点亮触控显示面板，使之显示黑态画面；

步骤S2：依次切断所述触控显示面板中的各类信号线，然后观察所述触控显示面板的漏光点在某一类信号线被切断后是否消失，若消失则判定漏光点的产生与该类信号线有关；

步骤S3：根据漏光点的位置以及所述触控显示面板的膜层结构，分析被判定与漏光点的产生有关的信号线上产生干扰电场的位置。

进一步地，在步骤S2中，判定漏光点的产生与某一类信号线有关后，还包括：对判定结果进行验证。

进一步地，对判定结果进行验证的方法为：向被判定有关的某一类信号线中依次输入不同电压信号，向其他类信号线中输入恒定电压信号，然后观察漏光点的亮度变化，若漏光点的亮度发生变化，则验证通过。

进一步地，所述触控显示面板中的各类信号线包括扫描线、数据线和触控线。

进一步地，在步骤2中，采用镭射激光依次切断所述触控显示面板中的各类信号线。

一种触控显示面板，包括阵列基板，所述阵列基板包括，

多条扫描线和多条数据线，所述扫描线和数据线之间相互交叉绝缘以限定出多个子像素区域；

多个像素电极，所述像素电极设置于所述扫描线和数据线所限定的子像素区域内且分别与对应的扫描线和数据线相连接；