[发明专利]四极杆质量分析装置及方法以及程序记录介质在审

专利信息
申请号: 202011344731.X 申请日: 2020-11-26
公开(公告)号: CN112992648A 公开(公告)日: 2021-06-18
发明(设计)人: 笹井浩平;笹仓一志;池山俊広;井上贵仁;内原博 申请(专利权)人: 株式会社堀场STEC;株式会社堀场制作所
主分类号: H01J49/42 分类号: H01J49/42;H01J49/00
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 包跃华;金玉兰
地址: 日本京都*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 四极杆 质量 分析 装置 方法 以及 程序 记录 介质
【权利要求书】:

1.一种四极杆质量分析装置,其特征在于,具备:

离子源,其使样品离子化;

过滤部,其具备四极杆并使在所述离子源产生的离子质量分离;

检测器,其检测通过了所述过滤部的离子;

过滤电压控制器,其控制施加于所述四极杆的由高频电压和直流电压构成的过滤电压,在阻断模式与入射模式之间进行切换,所述阻断模式使入射到所述过滤部的离子不入射到所述检测器,所述入射模式使入射到所述过滤部的离子入射到所述检测器;

基线计算部,其基于所述阻断模式中的所述检测器的输出来计算基线;以及

分析部,其基于所述入射模式中的所述检测器的输出和所述基线计算部计算出的基线来输出样品的分析结果。

2.根据权利要求1所述的四极杆质量分析装置,其特征在于,所述过滤电压控制器在所述入射模式下以通过稳定区域内的方式扫描过滤电压,所述稳定区域是指离子能够通过所述过滤部而到达所述检测器的高频电压与直流电压的组合的集合,

所述过滤电压控制器在所述阻断模式下以通过所述稳定区域外的方式扫描过滤电压。

3.根据权利要求1所述的四极杆质量分析装置,其特征在于,所述过滤电压控制器在所述入射模式下以分别通过在针对每个离子质荷比确定的多个所述稳定区域中直流电压相对于高频电压为最大的顶点或其附近的方式扫描过滤电压。

4.根据权利要求2所述的四极杆质量分析装置,其特征在于,所述过滤电压控制器在所述阻断模式下以通过针对每个离子质荷比确定的多个所述稳定区域的全部区域外侧的方式扫描过滤电压。

5.根据权利要求1所述的四极杆质量分析装置,其特征在于,所述过滤电压控制器将在所述阻断模式中扫描的过滤电压的直流电压相对于高频电压的斜率设定为比在所述入射模式中扫描的过滤电压的直流电压相对于高频电压的斜率大。

6.根据权利要求1所述的四极杆质量分析装置,其特征在于,还具备离子射出电极,所述离子射出电极形成将离子从所述离子源引出并使离子入射到所述过滤部内的电场,

所述离子射出电极在所述入射模式和所述阻断模式中的任一模式下都被施加相同的电压。

7.一种四极杆质量分析方法,其特征在于,是用于四极杆质量分析装置的分析方法,所述四极杆质量分析装置具备:

离子源,其使样品离子化;

过滤部,其具备四极杆并使在所述离子源产生的离子质量分离;以及

检测器,其检测通过了所述过滤部的离子,

所述四极杆质量分析方法具备:

过滤电压控制步骤,控制施加于所述四极杆的由高频电压和直流电压构成的过滤电压,在阻断模式与入射模式之间进行切换,所述阻断模式使入射到所述过滤部的离子不入射到所述检测器,所述入射模式使入射到所述过滤部的离子入射到所述检测器;

基线计算步骤,基于所述阻断模式中的所述检测器的输出来计算基线;以及

分析步骤,基于所述入射模式中的所述检测器的输出和在所述基线计算步骤中计算出的基线来输出样品的分析结果。

8.一种程序记录介质,其特征在于,是记录有用于四极杆质量分析装置的程序的程序记录介质,所述四极杆质量分析装置具备:

离子源,其使样品离子化;

过滤部,其具备四极杆并使在所述离子源产生的离子质量分离;以及

检测器,其检测通过了所述过滤部的离子,

所述程序记录介质使计算机发挥作为过滤电压控制器、基线计算部和分析部的功能,

所述过滤电压控制器控制施加于所述四极杆的由高频电压和直流电压构成的过滤电压,在阻断模式与入射模式之间进行切换,所述阻断模式使入射到所述过滤部的离子不入射到所述检测器,所述入射模式使入射到所述过滤部的离子入射到所述检测器,

所述基线计算部基于所述阻断模式中的所述检测器的输出来计算基线,

所述分析部基于所述入射模式中的所述检测器的输出和所述基线计算部计算出的基线来输出样品的分析结果。

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