[发明专利]应用于双面抛光设备的物料管理方法、系统及存储介质有效

专利信息
申请号: 202011350935.4 申请日: 2020-11-26
公开(公告)号: CN112405306B 公开(公告)日: 2022-03-22
发明(设计)人: 李昀泽 申请(专利权)人: 西安奕斯伟硅片技术有限公司;西安奕斯伟材料技术有限公司
主分类号: B24B29/02 分类号: B24B29/02;B24B7/17;B24B7/22;B24B41/06;B24B41/00;B24B49/10;G06K17/00
代理公司: 西安维英格知识产权代理事务所(普通合伙) 61253 代理人: 姚勇政;王渝
地址: 710065 陕西*** 国省代码: 陕西;61
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 应用于 双面 抛光 设备 物料 管理 方法 系统 存储 介质
【权利要求书】:

1.一种应用于双面抛光设备的物料管理系统,其特征在于,所述系统包括:在双面抛光设备的下定盘外围等距离设置的多个标签阅读器、控制器以及设置在承载盘的电子标签;其中,

所述多个标签阅读器,经配置为通过接收所述电子标签向外辐射的电磁信号测量获得所述承载盘的实测位置信息,并将所述承载盘的实测位置信息传输至所述控制器;

所述控制器,经配置为当所述双面抛光设备停机下料时,将所述承载盘的实测位置信息与所述承载盘的预存位置信息进行比对;以及,

相应于所述承载盘的实测位置信息与所述承载盘的预存位置信息之间的偏差大于设定阈值时,所述控制器向所述双面抛光设备发送复位指令;其中,所述复位指令用于指示所述双面抛光设备针对所述承载盘的位置进行初始化以使得所述承载盘恢复到正确位置;

相应于所述双面抛光设备中按照设定顺序放置多个设置有电子标签的承载盘,所述多个标签阅读器,还经配置为通过接收每个电子标签向外辐射的电磁信号测量获得每个承载盘的实测位置信息,并将所有承载盘的实测位置信息传输至所述控制器;

所述控制器,还经配置为按照所有承载盘的实测位置信息确定所有承载盘的当前顺序;以及,根据所述设定顺序判定所有承载盘的当前顺序是否正确。

2.根据权利要求1所述的应用于双面抛光设备的物料管理系统,其特征在于,所述多个标签阅读器中的两个标签阅读器,经配置为通过两点定位技术确定所述承载盘的实测位置信息;

所述多个标签阅读器中的其他标签阅读器,经配置为通过测量与所述承载盘之间的距离对所述承载盘的实测位置信息进行校验,并将完成校验的所述承载盘的实测位置信息传输至所述控制器。

3.根据权利要求2所述的应用于双面抛光设备的物料管理系统,其特征在于,所述标签阅读器的数量为3个。

4.根据权利要求1所述的应用于双面抛光设备的物料管理系统,其特征在于,多个所述承载盘的电子标签均设置于相应承载盘中的相同位置。

5.根据权利要求1所述的应用于双面抛光设备的物料管理系统,其特征在于,所述电子标签中存储有所述承载盘的标识;所述标签阅读器,还经配置为当所述承载盘放置于所述双面抛光设备的下定盘上时,读取所述电子标签中所存储的所述承载盘的标识;以及,将所述承载盘的标识传输至所述控制器;

所述控制器,还经配置为基于所述双面抛光设备的加工次数记录所述承载盘的标识所对应的承载盘的工作寿命;以及,当所述承载盘的标识所对应的承载盘的工作寿命满足设定的工作寿命时,发送用于指示更换所述承载盘的标识所对应的承载盘的提醒指令。

6.一种应用于双面抛光设备的物料管理方法,其特征在于,所述方法应用于权利要求1至5任一项所述的应用于双面抛光设备的物料管理系统,所述方法包括:

通过多个标签阅读器接收设置在承载盘上的电子标签向外辐射的电磁信号测量获得所述承载盘的实测位置信息;

当所述双面抛光设备停机下料时,通过控制器将所述承载盘的实测位置信息与所述承载盘的预存位置信息进行比对:

相应于所述承载盘的实测位置信息与所述承载盘的预存位置信息之间的偏差大于设定阈值时,通过所述控制器向所述双面抛光设备发送复位指令;其中,所述复位指令用于指示所述双面抛光设备针对所述承载盘的位置进行初始化以使得所述承载盘恢复到正确位置。

7.根据权利要求6所述的应用于双面抛光设备的物料管理方法,其特征在于,所述通过多个标签阅读器接收设置在承载盘上的电子标签向外辐射的电磁信号测量获得所述承载盘的实测位置信息,包括:

通过所述多个标签阅读器中的两个标签阅读器利用两点定位技术确定所述承载盘的实测位置信息;

通过所述多个标签阅读器中的其他标签阅读器测量与所述承载盘之间的距离;以及,

根据测量所得到的距离对所述承载盘的实测位置信息进行校验。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安奕斯伟硅片技术有限公司;西安奕斯伟材料技术有限公司,未经西安奕斯伟硅片技术有限公司;西安奕斯伟材料技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011350935.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top