[发明专利]掩膜版框架的张网对抗力的确定方法、装置和掩膜版有效
| 申请号： | 202011364854.X | 申请日： | 2020-11-27 |
| 公开（公告）号： | CN112507584B | 公开（公告）日： | 2023-01-10 |
| 发明（设计）人： | 范柳彬;李文星;李金库;刘明星;甘帅燕 | 申请（专利权）人： | 昆山国显光电有限公司 |
| 主分类号： | G06F30/23 | 分类号： | G06F30/23;G06T17/20;C23C14/04;C23C14/24;G06F119/14 |
| 代理公司： | 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 | 代理人： | 范坤坤 |
| 地址： | 215300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 掩膜版 框架 抗力 确定 方法 装置 | ||
1.一种掩膜版框架的张网对抗力的确定方法，其特征在于，包括：
根据掩膜版的参数建立掩膜版网面的仿真模型，并获取所述网面的仿真模型进行仿真得到的张网参数；其中，所述网面包括开口区和围绕所述开口区设置的遮挡区，所述遮挡区设置有多个缓冲单元；
根据所述张网参数和掩膜版框架的仿真模型得到所述框架的第一变形数据；
在所述框架的仿真模型中，向所述框架施加载荷使所述框架产生变形；
确定在所述框架变形的第二变形数据与所述第一变形数据匹配时施加于所述框架上的对抗力。
2.根据权利要求1所述的掩膜版框架的张网对抗力的确定方法，其特征在于，所述张网参数包括网面焊接线上的张网拉力。
3.根据权利要求2所述的掩膜版框架的张网对抗力的确定方法，其特征在于，根据所述张网参数和掩膜版框架的仿真模型得到所述框架的第一变形数据包括：
将所述网面焊接线上的张网拉力施加至所述框架上，使所述框架发生变形，并获取所述框架的第一变形数据；
其中，所述第一变形数据包括所述框架的形变、应力和应变的一种或多种。
4.根据权利要求1所述的掩膜版框架的张网对抗力的确定方法，其特征在于，在所述框架的仿真模型中，向所述框架施加载荷使所述框架产生变形包括：
向所述框架施加力载荷使所述框架发生变形。
5.根据权利要求4所述的掩膜版框架的张网对抗力的确定方法，其特征在于，确定在所述框架变形的第二变形数据与所述第一变形数据匹配时施加于所述框架上的对抗力包括：
当所述第二变形数据与所述第一变形数据一致时，所述力载荷为所述对抗力。
6.根据权利要求1所述的掩膜版框架的张网对抗力的确定方法，其特征在于，在所述框架的仿真模型中，向所述框架施加载荷使所述框架产生变形包括：
向所述框架施加位移载荷使所述框架发生变形。
7.根据权利要求6所述的掩膜版框架的张网对抗力的确定方法，其特征在于，确定在所述框架变形的第二变形数据与所述第一变形数据匹配时施加于所述框架上的对抗力包括：
当所述第二变形数据与所述第一变形数据一致时，所述位移载荷对应的力为所述对抗力。
8.根据权利要求1所述的掩膜版框架的张网对抗力的确定方法，其特征在于，采用有限元分析法获得所述第一变形数据和所述第二变形数据。
9.一种掩膜版框架的张网对抗力的确定装置，其特征在于，包括：
建模和参数获取模块，用于根据掩膜版的参数建立掩膜版网面的仿真模型，并获取所述网面的仿真模型进行仿真得到的张网参数；以及根据所述张网参数和掩膜版框架的仿真模型得到所述框架的第一变形数据；其中，所述网面包括开口区和围绕所述开口区设置的遮挡区，所述遮挡区设置有多个缓冲单元；
数据处理模块，用于在所述框架的仿真模型中，向所述框架施加载荷使所述框架产生变形；
结果确定模块，用于确定在所述框架变形的第二变形数据与所述第一变形数据匹配时施加于所述框架上的对抗力。
10.一种掩膜版，其特征在于，采用如权利要求1-8任一项所述的掩膜版框架的张网对抗力的确定方法进行制备。
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