[发明专利]掩膜版框架的张网对抗力的确定方法、装置和掩膜版有效
申请号: | 202011364854.X | 申请日: | 2020-11-27 |
公开(公告)号: | CN112507584B | 公开(公告)日: | 2023-01-10 |
发明(设计)人: | 范柳彬;李文星;李金库;刘明星;甘帅燕 | 申请(专利权)人: | 昆山国显光电有限公司 |
主分类号: | G06F30/23 | 分类号: | G06F30/23;G06T17/20;C23C14/04;C23C14/24;G06F119/14 |
代理公司: | 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 | 代理人: | 范坤坤 |
地址: | 215300 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 掩膜版 框架 抗力 确定 方法 装置 | ||
本发明实施例公开了一种掩膜版框架的张网对抗力的确定方法、装置和掩膜版,该掩膜版框架的张网对抗力的确定方法包括根据掩膜版的参数建立掩膜版网面的仿真模型,并获取网面的仿真模型进行仿真得到的张网参数;根据张网参数和掩膜版框架的仿真模型得到框架的第一变形数据;在框架的仿真模型中,向框架施加载荷使框架产生变形;确定在框架变形的第二变形数据与第一变形数据匹配时施加于框架上的对抗力。本发明实施例提供的技术方案,由于施加到框架上的对抗力是经过仿真模拟得到的,具有较高的精度,因此可以很好地匹配预期设定的网面下垂量,极大地提高了张网精度,进而有利于提高产品的良率。
技术领域
本发明实施例涉及掩膜技术领域,尤其涉及一种掩膜版框架的张网对抗力的确定方法、装置和掩膜版。
背景技术
在OLED显示面板制备工艺中,利用掩膜版进行膜层蒸镀是十分重要的工艺流程。
在利用掩膜版进行蒸镀之前,需要对掩膜版进行张网拉伸操作。然而现有技术中,掩膜版的张网精度较差,进而导致产品的良品率较低。
发明内容
本发明实施例提供一种掩膜版框架的张网对抗力的确定方法、装置和掩膜版,以提高张网精度,保证产品的良品率。
第一方面,本发明实施例提供了一种掩膜版框架的张网对抗力的确定方法,包括:
根据掩膜版的参数建立掩膜版网面的仿真模型,并获取所述网面的仿真模型进行仿真得到的张网参数;
根据所述张网参数和掩膜版框架的仿真模型得到所述框架的第一变形数据;
在所述框架的仿真模型中,向所述框架施加载荷使所述框架产生变形;
确定在所述框架变形的第二变形数据与所述第一变形数据匹配时施加于所述框架上的对抗力。
可选地,所述张网参数包括网面焊接线上的张网拉力。
可选地,根据所述张网参数和掩膜版框架的仿真模型得到所述框架的第一变形数据包括:
将所述网面焊接线上的张网拉力施加至所述框架上,使所述框架发生变形,并获取所述框架的第一变形数据;
其中,所述第一变形数据包括所述框架的形变、应力和应变的一种或多种。
可选地,在所述框架的仿真模型中,向所述框架施加载荷使所述框架产生变形包括:
向所述框架施加力载荷使所述框架发生变形。
可选地,确定在所述框架变形的第二变形数据与所述第一变形数据匹配时施加于所述框架上的对抗力包括:
当所述第二变形数据与所述第一变形数据一致时,所述力载荷为所述对抗力。
可选地,在所述框架的仿真模型中,向所述框架施加载荷使所述框架产生变形包括:
向所述框架施加位移载荷使所述框架发生变形。
可选地,确定在所述框架变形的第二变形数据与所述第一变形数据匹配时施加于所述框架上的对抗力包括:
当所述第二变形数据与所述第一变形数据一致时,所述位移载荷对应的力为所述对抗力。
可选地,采用有限元分析法获得所述第一变形数据和所述第二变形数据。
第二方面,本发明实施例还提供了一种掩膜版框架的张网对抗力的确定装置,该掩膜版框架的张网对抗力的确定装置包括:
建模和参数获取模块,用于根据掩膜版的参数建立掩膜版网面的仿真模型,并获取所述网面的仿真模型进行仿真得到的张网参数;以及根据所述张网参数和掩膜版框架的仿真模型得到所述框架的第一变形数据;
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