[发明专利]一种电解质等离子抛光设备控制系统及控制方法

权利要求书

1.一种电解质等离子抛光设备控制系统，所述电解质等离子抛光设备包括抛光电源设备、自动化机械传输模块、加工槽、储液槽、过滤装置，其特征在于，所述控制系统包括：

人机交互模块，所述人机交互模块包括显示界面、输入模块、寄存器；

设备参数监控模块，所述设备参数监控模块包括温度传感器、光电传感器、磁性传感器、电流电压监控器，设备参数监控模块获取的参数信息传输给人机交互模块，并存储在寄存器中；

PLC控制器，PLC控制器获取寄存器内的参数信息并进行判断，向设备状态控制模块发送对应的执行指令，或向人机交互模块发送报警信息，在显示界面进行显示；

设备状态控制模块，所述设备状态控制模块包括电磁阀、继电器、伺服驱动器、温控系统、循环泵，设备状态控制模块根据从PLC控制器接收到的执行指令进行对应的动作。

2.根据权利要求1所述的一种电解质等离子抛光设备控制系统，其特征在于，所述输入模块包括用户登录模块和参数设置模块；在用户登录模块输入有权限的操作人员身份信息，激活参数设置模块，输入需要设定的工艺参数。

3.根据权利要求1所述的一种电解质等离子抛光设备控制系统，其特征在于，

抛光电源设备用于为抛光加工过程提供电能；

自动化机械传输模块用于夹持工件、移动工件；

加工槽作为抛光加工的工作区，容纳抛光液和待加工工件，并与抛光电源设备连接；

储液槽用于存储抛光液；

过滤装置设置在储液槽与加工槽之间，将储液槽中的抛光液进行过滤后输送至加工槽。

4.根据权利要求3所述的一种电解质等离子抛光设备控制系统，其特征在于，所述过滤装置包括离子过滤机和颗粒物过滤机。

5.根据权利要求3所述的一种电解质等离子抛光设备控制系统，其特征在于，温度传感器用于监测储液槽和加工槽内的抛光液温度；

光电传感器用于监测自动化机械传输模块中机械夹爪是否夹持工件，磁性传感器监测机械夹爪的开合状态；

电流电压监控器用于监测抛光加工进行时电路中的电流与电压。

6.根据权利要求5所述的一种电解质等离子抛光设备控制系统，其特征在于，

电磁阀，用于控制气缸运动从而控制机械夹爪的开合；

继电器，设置在自动化机械传输模块与抛光电源设备连接线路中，电源过载时，继电器闭合，向PLC控制器发送信号，PLC控制器切断电源，停止加工；

伺服驱动器，用于驱动机械夹爪的位置移动，实现上料、下料；

温控系统，包括加热模块和冷却模块，通过加热模块将储液槽内的抛光液加热到设定温度，当加工槽内的抛光液温度超过设定上限值，通过冷却模块对储液槽内液体温度进行降温至所需温度，然后在循环泵的作用下将冷却后的抛光液输送至加工槽；

循环泵，设置在储液槽和加工槽之间的连接管路上，PLC控制器定时开启循环泵，实现储液槽与加工槽内液体循环。

7.根据权利要求6所述的一种电解质等离子抛光设备控制系统，其特征在于，电源过载时，PLC控制器向人机交互模块发送报警信息，同时将加工槽内正在加工的工件判断为废品，通过自动化机械传输模块将废品移至废料收集区。

8.根据权利要求7所述的一种电解质等离子抛光设备控制系统，其特征在于，在人机交互模块中设置四种工作模式，分别是循环模式、调试模式、初始化模式和清料模式。

9.根据权利要求8所述的一种电解质等离子抛光设备控制系统，其特征在于，启用循环模式，实现工件的循环自动加工；

启用调试模式，进行单个或若干个工件的单次加工功能，根据加工结果，进行参数调试；

初始化模式，在控制系统开机启动后进行设置，初始化设备参数监控模块、设备状态控制模块中各部件执行器状态，初始化PLC控制器内部存储器值；

清料模式，设备加工结束之后，将加工槽内的工件依次取出。

10.一种基于权利要求9所述控制系统的电解质等离子抛光设备控制方法，其特征在于，控制过程如下：

开机后，先启用初始化模块，然后输入设定工艺参数；

PLC控制器发送指令给温控系统，将抛光液加热到指定温度，并启动循环泵，开启过滤装置，将抛光液输送至加工槽；

启用调试模式，自动化机械传输模块输送单个工件至加工槽，启动抛光电源设备，开始加工；加工过程中监测电流和电压情况、监测加工槽中液体温度情况，根据监测结果做出相应的动作；

启用循环模式，对选中工位的工件进行循环自动加工；

加工结束后，启用清料模式，驱动机械夹爪将工位上的产品依次取下。