[发明专利]一种电解质等离子抛光设备控制系统及控制方法

说明书

本发明公开了一种电解质等离子抛光设备控制系统，所述电解质等离子抛光设备包括抛光电源设备、自动化机械传输模块、加工槽、储液槽、过滤装置，控制系统包括人机交互模块、设备参数监控模块、PLC控制器、设备状态控制模块。人机交互模块、设备参数监控模块、PLC控制器、设备状态控制模块与电解质等离子抛光设备构成一整套电解质等离子抛光设备控制系统方案，对加工过程进行参数设定、过程监控和操作控制，解决了目前电解质等离子抛光技术存在的工件加工效率低、抛光电压不可控、溶液温度循环不及时、蒸汽排放不及时、设备加工稳定性和连续性不足等问题。

技术领域

本发明涉及一种电解质等离子抛光设备控制系统及控制方法，属于抛光设备技术领域。

背景技术

电解质等离子抛光是一种新型的抛光技术，是不锈钢抛光领域的一种发展趋势。其基本原理是通过在工件和抛光液之间形成气层，通过等离子体放电去除工件表面微观凸起从而实现抛光。等离子就是抛光盐溶液在高温高压下，电子会脱离原子核跑出来，原子核就形成一个带正电的离子，当这些离子达到一定数量的时候可以成为等离子态，等离子能量很大，当这些等离子与要抛光的物体摩擦时，瞬间会使物体表面达到光亮的效果，对浸入溶液中物体的任何一个面都可以抛光。与传统抛光相比，它的电解液为较低浓度的盐溶液，并可通过补充盐溶液循环使用，并且不会产生有害物质，相较于传统的机械抛光方法，电解质等离子抛光方法操作简单、成本低、加工效率高，一般的零件的加工时间仅为1-5分钟，加工不受零件形状限制，能够加工传统抛光无法加工到的凹槽、内孔等位置。更解决化学和电化学抛光难以避免的环境污染问题，该技术广泛用于金属表面抛光，去毛刺、钝化及清除氧化层等场合。

由于电解质等离子抛光作业过程中电力作业危险性较大，难以靠人工完成作业，所以需要针对特定工件抛光工艺，针对满足特定工件抛光的自动化抛光设备及控制系统来辅助抛光。

发明内容

目的：为了克服现有技术中存在的不足，本发明提供一种电解质等离子抛光设备控制系统及控制方法。

技术方案：为解决上述技术问题，本发明采用的技术方案为：

一种电解质等离子抛光设备控制系统，所述电解质等离子抛光设备包括抛光电源设备、自动化机械传输模块、加工槽、储液槽、过滤装置，所述控制系统包括：

人机交互模块，所述人机交互模块包括显示界面、输入模块、寄存器；

设备参数监控模块，所述设备参数监控模块包括温度传感器、光电传感器、磁性传感器、电流电压监控器，设备参数监控模块获取的参数信息传输给人机交互模块，并存储在寄存器中；

PLC控制器，PLC控制器获取寄存器内的参数信息并进行判断，向设备状态控制模块发送对应的执行指令，或向人机交互模块发送报警信息，在显示界面进行显示；

设备状态控制模块，所述设备状态控制模块包括电磁阀、继电器、伺服驱动器、温控系统、循环泵，设备状态控制模块根据从PLC控制器接收到的执行指令进行对应的动作。

进一步地，抛光电源设备用于为抛光加工过程提供电能；

自动化机械传输模块用于夹持工件、移动工件；

加工槽作为抛光加工的工作区，容纳抛光液和待加工工件，并与抛光电源设备连接；

储液槽用于存储抛光液；

过滤装置设置在储液槽与加工槽之间，将储液槽中的抛光液进行过滤后输送至加工槽。

进一步地，所述过滤装置包括离子过滤机和颗粒物过滤机。

进一步地，温度传感器用于监测储液槽和加工槽内的抛光液温度；

光电传感器用于监测自动化机械传输模块中机械夹爪是否夹持工件，磁性传感器监测机械夹爪的开合状态；

电流电压监控器用于监测抛光加工进行时电路中的电流与电压。

进一步地，电磁阀，用于控制气缸运动从而控制机械夹爪的开合；