[发明专利]蒸镀坩埚及蒸镀装置在审
| 申请号： | 202011380594.5 | 申请日： | 2020-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN114574809A | 公开（公告）日： | 2022-06-03 |
| 发明（设计）人： | 林文晶;轩景泉;赵军;钱海涛;毕岩;刘萍 | 申请（专利权）人： | 上海升翕光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京汇思诚业知识产权代理有限公司 11444 | 代理人： | 周放 |
| 地址： | 200540 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 坩埚 装置 | ||
1.一种蒸镀坩埚，其特征在于，包括：
坩埚本体(1)，具有用于盛装蒸镀材料的容腔；
加热装置(2)，设置于所述坩埚本体(1)的外底壁；
其中，所述坩埚本体(1)的内底壁设有多个第一凹陷部(11)，且相邻的两个所述第一凹陷部(11)之间围成分隔部(12)；
所述坩埚本体(1)与所述分隔部(12)对应的外底壁处还设置有朝向所述分隔部(12)凹陷的第二凹陷部(13)；
所述加热装置(2)至少部分的插装于所述第二凹陷部(13)。
2.根据权利要求1所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述第一凹陷部(11)为环形凹陷槽，且多个所述环形凹陷槽同心间隔设置；
所述分隔部(12)为相邻两个所述环形凹陷槽围成的环形凸起沿，或直径最小的所述环形凹陷槽围成的圆形凸起。
3.根据权利要求2所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述环形凹陷槽的底壁为朝向所述坩埚本体(1)的外底壁凹陷的圆弧壁。
4.根据权利要求1所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述第二凹陷部(13)与所述分隔部(12)一一对应设置，且所述第二凹陷部(13)的凹陷深度小于所述分隔部(12)的凸起高度。
5.根据权利要求4所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述第二凹陷部(13)的内周壁还设置有凸起卡头(131)；
所述加热装置(2)以挤压所述凸起卡头(131)的方式插装卡固于所述第二凹陷部(13)。
6.根据权利要求1所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述坩埚本体(1)中还设置有分隔滤板(14)；
所述分隔滤板(14)的板体均匀开设有贯穿的滤孔；
所述分隔滤板(14)沿高度方向自上向下将所述坩埚本体(1)的容腔分隔成相互导通的扩散腔和收容腔。
7.根据权利要求6所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述坩埚本体(1)的内周壁还设置有搭接沿(15)；
所述分隔滤板(14)以搭挂于所述搭接沿(15)的方式安装于所述坩埚本体(1)。
8.根据权利要求1～7中任一项所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述坩埚本体(1)的沿口设置成扩口状的阶梯口(16)。
9.根据权利要求1～7中任一项所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述加热装置(2)包括抵接部(21)和插接部(22)；
所述抵接部(21)对应抵接于所述坩埚本体(1)的外底壁；
所述插接部(22)对应插接于所述第二凹陷部(13)。
10.一种蒸镀装置，其特征在于，包括蒸镀盖板(3)和权利要求1～9中任一项所述蒸镀坩埚；
所述蒸镀盖板(3)盖合于所述蒸镀坩埚的开口。
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