[发明专利]层叠薄膜的制造方法

说明书

本发明涉及层叠薄膜的制造方法，该方法具有：露出工序，在含有金属氧化物粒子的硬涂层的表面，使金属氧化物粒子露出；及成膜工序，在所述硬涂层的金属氧化物粒子露出面形成密合层，所述密合层包含具有与所述金属氧化物粒子同种的金属的缺氧态金属氧化物或与所述金属氧化物粒子同种的金属；所述露出工序中，对硬涂层的表面进行蚀刻，所述蚀刻后的硬涂层表面的算术平均粗糙度Ra为2nm以上12nm以下。由此，密合层与硬涂层的树脂坚固地附着，并且与露出的金属氧化物粒子更加牢固地附着，因此能够获得优异的密合性。

本申请是原申请的申请日为2016年5月27日，申请号为201680028850.X，发明名称为《层叠薄膜及层叠薄膜的制造方法》的中国专利申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及有机层与无机层的密合性优异的层叠薄膜及层叠薄膜的制造方法。本申请主张以在日本于2015年5月27日提出的日本专利申请号日本特愿2015-107978及在日本于2016年5月26日提出的日本专利申请号日本特愿2016-105680为基础的优先权，此申请通过参照而被引用至本申请。

背景技术

作为层叠薄膜的一例，可以举出在表面硬度比较高的硬涂层上形成了利用干式工艺的AR(抗反射，Anti-Reflective)层的防反射膜(例如，参照专利文献1。)。

然而，硬涂层是有机层，AR层是无机层，因此难以获得优异的密合性。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开平11-218603号公报

发明内容

发明所要解决的课题

本发明是鉴于这样的以往的实际情况而提出的，提供有机层与无机层之间的密合性优异的层叠薄膜及层叠薄膜的制造方法。

用于解决课题的方法

本发明人进行了深入研究，结果发现：通过在含有金属氧化物粒子的硬涂层的表面使金属氧化物粒子露出，在其表面成膜包含与金属氧化物粒子同种的缺氧态金属氧化物或金属的密合层，从而有机层与无机层之间的密合性显著提高。

即，本发明的层叠薄膜的特征在于，具备：表面露出有金属氧化物粒子的硬涂层；和在上述硬涂层的金属氧化物粒子露出面成膜且包含具有与上述金属氧化物粒子同种的金属的缺氧态金属氧化物或与上述金属氧化物粒子同种的金属的密合层。

此外，本发明的层叠薄膜的制造方法的特征在于，具有：露出工序，在含有金属氧化物粒子的硬涂层的表面使金属氧化物粒子露出；及成膜工序，在上述硬涂层的金属氧化物粒子露出面形成密合层，所述密合层包含具有与上述金属氧化物粒子同种的金属的缺氧态金属氧化物或与上述金属氧化物粒子同种的金属。

发明效果

根据本发明，由于密合层坚固地附着于硬涂层的树脂，并且更加牢固地附着于露出的金属氧化物粒子，因此能够获得优异的密合性。

附图说明

[图1]图1是示意性表示本实施方式的露出有金属氧化物粒子的硬涂层的截面图。

[图2]图2是示意性表示本实施方式的层叠薄膜的截面图。

[图3]图3是示意性表示应用本发明后的防反射膜的截面图。

[图4]图4是表示划格试验(cross-hatch test)的评价例的照片，图4(A)表示未发生剥离的情况，图4(B)表示一部分发生剥离的情况，图4(C)表示全部发生剥离的情况。

[图5]图5(A)是实施例3的TEM截面的照片，图5(B)是比较例1的TEM截面的照片。

符号说明