[发明专利]一种降低浮法玻璃化学钢化后翘曲度的加工工艺及玻璃

权利要求书

1.一种降低浮法玻璃化学钢化后翘曲度的加工工艺，其特征在于，包括如下步骤：

S1：将浮法工艺生产的超薄玻璃液流入锡液槽中，制备成为光滑平整的浮法玻璃，所述浮法玻璃靠近所述锡液槽的一侧为锡面，远离所述锡液槽的一面为非锡面；

S2：将所述浮法玻璃进行超声清洗；

S3：使用玻璃锡面检测仪检测确定所述浮法玻璃的锡面和非锡面；

S4：对步骤S3检测出的所述非锡面采用磁控溅射镀膜工艺进行镀膜；

S5：采用Ambios轮廓膜厚分析仪对步骤S4中所述非锡面上的镀膜进行检测其厚度，确认所述厚度是否在标准之内；

S6：将所述厚度在标准之内的所述浮法玻璃进行清洗烘干，然后将烘干后的所述浮法玻璃进行化学强化。

2.根据权利要求1所述的加工工艺，其特征在于，所述超声清洗分为第一次超声清洗和第二次超声清洗；所述第一次超声清洗为将所述浮法玻璃放置在丙酮溶液中进行超声清洗；所述第二次超声清洗为将所述浮法玻璃放置在蒸馏水中进行超声清洗。

3.根据权利要求2所述的加工工艺，其特征在于，所述第一次超声清洗的时间为5～10min；所述第二次超声清洗的时间为10～15min。

4.根据权利要求1所述的加工工艺，其特征在于，所述S3包括如下步骤：

S3-1：打开所述玻璃锡面检测仪的紫外线光源；

S3-2：将其贴合所述浮法玻璃的一侧；

S3-3：从所述浮法玻璃的另一侧观察，若观察到乳白色的光辉，则所述玻璃锡面检测仪贴合的一面为所述锡面；若没有光辉或观察到蓝紫色光，则所述玻璃锡面检测仪贴合的一面为所述非锡面。

5.根据权利要求1所述的加工工艺，其特征在于，所述镀膜选自SiO₂薄膜和Si₃N₄薄膜中的一种。

6.根据权利要求5所述的加工工艺，其特征在于，所述SiO₂薄膜的磁控溅射镀膜工艺参数为：120～320w，0.5～2.5Pa，O₂＝5～15，Ar＝10～30，时间为5～15min；

所述Si₃N₄薄膜的磁控溅射镀膜工艺参数为：80～280w，0.5～3.0Pa，N₂＝10～30，Ar＝50～80，时间为1～5min。

7.根据权利要求1所述的加工工艺，其特征在于，所述镀膜厚度的标准为40～120nm。

8.根据权利要求1所述的加工工艺，其特征在于，所述化学强化使用的化学溶液中离子的半径小于所述镀膜内的离子的半径。

9.一种玻璃，其特征在于，所述玻璃采用如权利要求1～8任一项所述的加工工艺制成。