[发明专利]一种光学薄膜的镀膜制备方法在审
| 申请号： | 202011385264.5 | 申请日： | 2020-12-02 |
| 公开（公告）号： | CN112357957A | 公开（公告）日： | 2021-02-12 |
| 发明（设计）人： | 钱佳琪;陈小刚 | 申请（专利权）人： | 苏州苏克新型材料有限公司 |
| 主分类号： | C01G23/053 | 分类号： | C01G23/053;C03C17/23 |
| 代理公司： | 苏州铭浩知识产权代理事务所(普通合伙) 32246 | 代理人： | 张一鸣 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 光学薄膜 镀膜 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种光学薄膜的镀膜制备方法，包括：S1酸分解、S2浸出、S3冷却结晶、S4浓缩、S5水解分离、S6煅烧、S7静压成型、S8低温除气、S9高温除杂、烧结；其特征在于：所述S1酸分解，向钛铁矿（FeTIO3）内倒入浓H2SO4进行酸分解；所述S2浸出，将S1处理后的物料加水浸出；所述S3冷却结晶，对物料进行冷却结晶，去除物料中的FeSO4·7H2O；所述S4浓缩，将物料进行浓缩；所述S5水解分离，将S4处理后的物料进行水解分离，去除废酸溶液，制得偏钛酸（H2TiO3）；所述S6煅烧，将偏钛酸进行煅烧，制得TiO2粉末；所述S7静压成型，将TiO2粉末进行造粒等静压成型；所述S8低温除气，将静压成型后的TiO2粉末进行低温除气；所述S9高温除杂、烧结，将S8处理后的物料进行高温除杂、烧结，制得片（粒）状TiO2镀膜材料。
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