[发明专利]一种光学薄膜的镀膜制备方法

说明书

本发明提供了一种光学薄膜的镀膜制备方法，包括：S1酸分解、S2浸出、S3冷却结晶、S4浓缩、S5水解分离、S6煅烧、S7静压成型、S8低温除气、S9高温除杂、烧结；所述S1酸分解，向钛铁矿（FeTIO₃）内倒入浓H₂SO₄进行酸分解；所述S2浸出，将S1处理后的物料加水浸出；所述S3冷却结晶，对物料进行冷却结晶，去除物料中的FeSO₄·7H₂O；所述S4浓缩，将物料进行浓缩；所述S5水解分离，将S4处理后的物料进行水解分离，去除废酸溶液，制得偏钛酸（H₂TiO₃）；所述S6煅烧，将偏钛酸进行煅烧；本发明通过对光学薄膜的镀膜制备方法的改进，具有设计合理，制备方法较为简单，易于实现，稳定性强，成本较低，易于大批量生产的优点，从而有效的解决了本发明提出的问题和不足。

技术领域

本发明涉及光学薄膜技术领域，更具体的说，尤其涉及一种光学薄膜的镀膜制备方法。

背景技术

光学薄膜是由薄的分层介质构成的，通过界面传播光束的一类光学介质材料。光学薄膜的应用始于20世纪30年代。现代，光学薄膜已广泛用于光学和光电子技术领域，制造各种光学仪器。

主要的光学薄膜器件包括反射膜、减反射膜、偏振膜、干涉滤光片和分光镜等等。它们在国民经济和国防建设中得到了广泛的应用，获得了科学技术工作者的日益重视。

镀膜材料制备的主要方法可概括为：

1、湿法(水法)制备工艺：酸(碱)溶法、液相萃取法、分馏法、结晶法。

2、火法高温制备工艺：热还原法、物理汽相沉积(PVD)法、化学汽相沉积(CVD)法、液相外延生长法(LEC)、热等静压成型法、高温烧结法(或熔炼法)。一般材料的制备都是采用特定的湿法工艺和火法工艺相结合的方法，而且不同材料的制备工艺也有所不同。

有鉴于此，提供一种光学薄膜的镀膜制备方法，旨在通过该技术，达到解决问题与提高实用价值性的目的。

发明内容

本发明的目的在于提供一种光学薄膜的镀膜制备方法，以解决上述背景技术中提出的问题和不足。

为实现上述目的，本发明提供了一种光学薄膜的镀膜制备方法，由以下具体技术手段所达成：

一种光学薄膜的镀膜制备方法，包括：S1酸分解、S2浸出、S3冷却结晶、S4浓缩、S5水解分离、S6煅烧、S7静压成型、S8低温除气、S9高温除杂、烧结；所述S1酸分解，向钛铁矿（FeTIO₃）内倒入浓H₂SO₄进行酸分解；所述S2浸出，将S1处理后的物料加水浸出；所述S3冷却结晶，对物料进行冷却结晶，去除物料中的FeSO₄·7H₂O；所述S4浓缩，将物料进行浓缩；所述S5水解分离，将S4处理后的物料进行水解分离，去除废酸溶液，制得偏钛酸（H₂TiO₃）；所述S6煅烧，将偏钛酸进行煅烧，制得TiO₂粉末；所述S7静压成型，将TiO₂粉末进行造粒等静压成型；所述S8低温除气，将静压成型后的TiO₂粉末进行低温除气；所述S9高温除杂、烧结，将S8处理后的物料进行高温除杂、烧结，制得片（粒）状TiO₂镀膜材料。

由于上述技术方案的运用，本发明与现有技术相比具有下列优点：

本发明通过对光学薄膜的镀膜制备方法的改进，具有设计合理，制备方法较为简单，易于实现，稳定性强，成本较低，易于大批量生产的优点，从而有效的解决了本发明提出的问题和不足。

具体实施方式