[发明专利]一种便于调节的双工位直投式光刻机在审
申请号: | 202011386436.0 | 申请日: | 2020-12-01 |
公开(公告)号: | CN112558423A | 公开(公告)日: | 2021-03-26 |
发明(设计)人: | 周杰;张琪;符友银;李俊毅 | 申请(专利权)人: | 北京新毅东科技有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F9/00 |
代理公司: | 合肥律众知识产权代理有限公司 34147 | 代理人: | 侯克邦 |
地址: | 100043 北京市石景*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 便于 调节 双工 位直投式 光刻 | ||
本发明公开了一种便于调节的双工位直投式光刻机,包括底座,底座的顶端固定开设有凹槽,凹槽内设置有工作台,且工作台的顶端设置有传送台;传送台由输送带、主动轮和从动轮构成,且主动轮与从动轮通过输送带传送连接;传送台的顶部设置有第一固定架和第二固定架,且第一固定架设置在第二固定架的一侧;第一固定架一侧的顶端设置有对位相机,第二固定架一侧的顶端设置有镜筒。该种便于调节的双工位直投式光刻机的底座内设置有液压缸,液压缸的伸缩端与工作台的底端固定连接,可通过液压缸实现工作台的升降,对工作台的高度进行调节,当需要对第一固定架和第二固定架上的对位相机和镜筒进行调节时可通过液压缸降低工作台的高度。
技术领域
本发明涉及光刻机技术领域,具体为一种便于调节的双工位直投式光刻机。
背景技术
光刻机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。现有双工位直投式光刻机,把CCD对位和曝光分开来做,利用输送带形式,形成流水线作业。但是现有的双工位直投式光刻机的工作台高度通常都是固定设置,不便于对用于对位的对位相机及曝光的镜筒进行调整或者更换。因此我们对此做出改进,提出一种便于调节的双工位直投式光刻机。
发明内容
为了解决上述技术问题,本发明提供了如下的技术方案:
本发明一种便于调节的双工位直投式光刻机,包括底座,所述底座的顶端固定开设有凹槽,所述凹槽内固定设置有工作台,且工作台的顶端固定设置有传送台;所述传送台由输送带、主动轮和从动轮构成,且主动轮与从动轮通过输送带传送连接;所述传送台的顶部固定设置有第一固定架和第二固定架,且第一固定架固定设置在第二固定架的一侧;所述第一固定架一侧的顶端固定设置有对位相机,所述第二固定架一侧的顶端固定设置有镜筒;所述工作台的正面固定设置有操作口,且工作台的两侧固定设置有开口。
作为本发明的一种优选技术方案,所述底座的内部固定设置有两个液压缸,且两个液压缸的伸缩端贯穿凹槽与工作台的底端固定连接。
作为本发明的一种优选技术方案,所述第一固定架和第二固定架的底端固定设置有安装块,且安装块的表面水平开设有第一螺纹孔。
作为本发明的一种优选技术方案,所述工作台的顶端且位于传送台的两侧均固定开设有方形槽,所述方形槽的宽度大于安装块的宽度。
作为本发明的一种优选技术方案,所述工作台的正面和背面均水平开设有第二螺纹孔,所述第二螺纹孔内螺纹设置有螺纹柱且第二螺纹孔与第一螺纹孔的尺寸相同。
作为本发明的一种优选技术方案,所述主动轮的一侧固定设置有驱动电机,且主动轮与驱动电机的输出端传动连接。
作为本发明的一种优选技术方案,所述底座的内部固定设置有储物仓,所述储物仓的正面固定设置有仓门。
作为本发明的一种优选技术方案,所述底座的正面且位于仓门的一侧固定设置有控制开关,所述驱动电机和液压缸均与控制开关电性连接。
本发明的有益效果是:该种便于调节的双工位直投式光刻机的底座内固定设置有液压缸,液压缸的伸缩端与工作台的底端固定连接,可通过液压缸实现工作台的升降,对工作台的高度进行调节,当需要对第一固定架和第二固定架上的对位相机和镜筒进行调节时可通过液压缸降低工作台的高度。
附图说明
附图用来提供对本发明的进一步理解,并且构成说明书的一部分,与本发明的实施例一起用于解释本发明,并不构成对本发明的限制。在附图中:
图1是本发明一种便于调节的双工位直投式光刻机的立体图;
图2是本发明一种便于调节的双工位直投式光刻机的平面图一;
图3是本发明一种便于调节的双工位直投式光刻机的平面图二。
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