[发明专利]一种反射膜的制备方法

权利要求书

1.一种反射膜的制备方法，其特征在于：经偶联剂改性的无机填料5-15质量份、光扩散粒子5-15质量份、基材切片70-80质量份在双螺杆挤出机中熔融混合挤出造粒，与芯层料在三层挤出夹头挤出流延，再双向拉伸，冷却后形成芯层的两面均复合有光扩散层的反射膜。

2.如权利要求1所述的反射膜的制备方法，其特征在于：所述的无机填料为碳酸钙晶须，或硫酸镁晶须，或硫酸钙晶须，或氮化硼晶须，或硼酸铝晶须，或硼酸镁晶须，该无机无机填料晶须的长径比为10~50；

所述无机填料的改性方法为：无机填料和偶联剂在无水乙醇或者丁酮中混合，再采用超声波振荡使偶联剂与无机填料充分混合发生偶联反应，从而对无机填料进行改性，其中偶联剂的用量为无机填料质量的1%-10%。

3.如权利要求2所述的反射膜的制备方法，其特征在于：所述的偶联剂为硅烷偶联剂，或铝酸酯偶联剂，或锆酸酯偶联剂。

4.如权利要求3所述的反射膜的制备方法，其特征在于：所述的光扩散粒子为TiO₂粒子，或ZnO粒子，或ZnS粒子，且粒径为1~7μm。

5.如权利要求4所述的反射膜的制备方法，其特征在于：所述的基材切片为聚碳酸酯切片，或聚对苯二甲酸乙二醇酯切片，或聚对苯二甲酸丁二醇酯切片。

6.如权利要求5所述的反射膜的制备方法，其特征在于：所述的芯层料为聚对苯二甲酸乙二醇酯。

7.如权利要求1-6之一所述的反射膜的制备方法，其特征在于：所述的双螺杆挤出机各区温度为200-300℃，主机转速2000-8000 rpm。

8.如权利要求7所述的反射膜的制备方法，其特征在于：基材切片从双螺杆挤出机主进料口添加，其中进料速度为30~80 rpm；经偶联剂改性的无机填料和光扩散粒子混匀后从双螺杆挤出机辅进料口添加，其中进料速度为10~25 rpm。

9.如权利要求8所述的反射膜的制备方法，其特征在于：双螺杆挤出机九个加热区域的分布为200℃、220℃、240℃、260℃、280℃、290℃、300℃、280℃、260℃。

10.如权利要求9所述的反射膜的制备方法，其特征在于：双螺杆挤出机九个加热区域的分布为200℃、220℃、240℃、260℃、280℃、290℃、300℃、280℃、260℃。