[发明专利]一种通过激光制作对位标记的金属掩膜版

说明书

本发明公开了一种通过激光制作对位标记的金属掩膜版，包括掩膜版主体，掩膜版主体通过张网的方式将四角的对位孔与图形区的位置拉到指定位置后，与金属掩膜框拼合形成金属掩膜版；支撑掩膜版主体，寻找图形位置并对掩膜版主体上的图形位置进行多次校验；对准掩膜版主体图形位置并平放并固定连接在框架台体上；所述掩膜版主体利用激光制作出多个对位标记，本发明制作的掩膜版对位孔的真圆度较好，能控制在99％左右，而且不受传统蚀刻液的残留影响，激光打标后的平均对位次数可以小于一次，同时对Frame的加工难度减小，所以Mask的加工难度减小，达到增加Mask良品率的效果，降低了生产成本，可有效提升产能。

技术领域

本发明涉及膜版技术领域，具体为一种通过激光制作蒸镀对位标记的金属掩膜版。

背景技术

光罩又称掩膜版，是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构，再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上，加工的掩膜版由玻璃/石英基片、铬层和光刻胶层构成。其图形结构可通过制版工艺加工获得，常用加工设备为直写式光刻设备，如激光直写光刻机、电子束光刻机等。

目前工艺的流程中，金属掩膜版的蒸镀对位孔与图像均为蚀刻一体成型，具体步骤为蚀刻、张网和焊接，在张网过程中只能优先保证图形的位置精度的准确性，蒸镀对位孔会有一定的偏差，另外就是蒸镀对位孔通过蚀刻制作真圆度不好，蒸镀过程中会影响金属掩膜版跟玻璃的对位次数，影响产能。

基于此，本发明设计了一种通过激光制作蒸镀对位标记的金属掩膜版，以解决上述问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种通过激光制作蒸镀对位标记的金属掩膜版，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：

一种通过激光制作蒸镀对位标记的金属掩膜版，包括掩膜版主体，掩膜版主体通过张网的方式将四角的对位孔与图形区的位置拉到指定位置后，与金属掩膜框拼合形成金属掩膜版；

支撑掩膜版主体，寻找图形位置并对掩膜版主体上的图形位置进行多次校验；

对准掩膜版主体图形位置并平放并固定连接在框架台体上；

所述掩膜版主体利用激光制作出多个蒸镀对位标记。

优选的，所述激光制作的蒸镀对位标记有最少四个，分别设置于掩膜版主体的四角边缘处。

优选的，所述激光制作的的蒸镀对位标记为全黑。

优选的，所述掩膜版主体通过激光焊接在金属掩膜框上。

优选的，激光焊接的误差控制在5-10μm。

优选的，所述图形位置校验次数不少于2次。

优选的，所述激光制作的蒸镀对位标记与掩膜版主体的间距控制在3-5cm。

与现有技术相比，本发明的有益效果是：

与传统的步骤相比，本发明的步骤分为蚀刻、张网和焊接及激光制作蒸镀对位标记，蒸镀对位标记采用激光雕刻的方式制作，可以保证图形位置精度的前提下，将对位标记雕刻在金属掩膜版上，雕刻的标记为全黑，可与金属掩膜版表面形成鲜明的对比度以及具有很好的真圆度，蚀刻后蒸镀对位孔的真圆度在97％左右，大小误差在30μm以内；激光制作的蒸镀对位标记真圆度可达到99％，大小误差在10μm以内，现在蚀刻对位的次数平均在1.5次左右，利用激光制作蒸镀对位标记后的对位次数平均可以小于1次，效率可提升30％，大大减少了蒸镀过程中金属掩膜版与玻璃的对位次数，且在蒸镀过程中加快生产节拍，保证产能供应，提高了蒸镀的产能并有效的提高了生产的效率，同时在张网之前没有开孔，降低了张网的难度，提高张网的精度。

附图说明