[发明专利]一种SE结构图案及其制作方法

权利要求书

1.一种SE结构图案，其特征在于，包括：

Mark点图组(1)，所述Mark点图组(1)设置于电池片的成形表面上，所述Mark点图组(1)为十字型图组，所述Mark点图组(1)包括相互交叉的横线(11)和纵线(12)，所述横线(11)沿所述成形表面的横向设置，所述纵线(12)沿所述成形表面的纵向设置；

副栅激光线图组(2)，所述副栅激光线图组(2)设置于所述成形表面上，所述副栅激光线图组(2)包括上部分(21)、中间部分(22)和下部分(23)，所述上部分(21)、所述中间部分(22)和所述下部分(23)均包括若干条第一刻线(24)，所述第一刻线(24)沿所述成形表面的横向分布；

主栅激光线图组(3)，所述主栅激光线图组(3)设置于所述成形表面上，所述主栅激光线图组(3)包括若干组第二刻线(31)，每组所述第二刻线(31)沿所述成形表面的纵向分布。

2.根据权利要求1所述的SE结构图案，其特征在于，每组所述第二刻线(31)均包括两条平行间隔分布的所述第二刻线(31)。

3.根据权利要求1所述的SE结构图案，其特征在于，还包括边框激光线图组(4)，所述边框激光线图组(4)为矩形，所述边框激光线图组(4)包括两条第三刻线(41)和两条第四刻线(42)，两条所述第三刻线(41)平行间隔设置，两条所述第四刻线(42)平行间隔设置。

4.根据权利要求3所述的SE结构图案，其特征在于，所述边框激光线图组(4)还包括倒角刻线(43)，所述矩形的每个角上均设有所述倒角刻线(43)。

5.根据权利要求4所述的SE结构图案，其特征在于，所述倒角刻线(43)包括第一倒角刻线和第二倒角刻线，所述第一倒角刻线和所述第二倒角刻线间隔设置。

6.一种SE结构图案的制作方法，用于制作如权利要求4所述的SE结构图案，其特征在于，包括如下步骤：

S1.利用横向激光线组对所述成形表面进行加工；

S2.利用纵向激光线组对所述成形表面进行加工。

7.根据权利要求6所述的SE结构图案的制作方法，其特征在于，所述步骤S1包括如下步骤：

S11.利用所述横向激光线组加工所述上部分(21)中的所述第一刻线(24)；

S12.利用所述横向激光线组加工右上角的所述Mark点图组(1)的所述横线(11)；

S13.利用所述横向激光线组加工左上角的所述Mark点图组(1)的所述横线(11)；

S14.利用所述横向激光线组加工所述中间部分(22)的所述第一刻线(24)；

S15.利用所述横向激光线组加工左下角的所述Mark点图组(1)的所述横线(11)；

S16.利用所述横向激光线组加工右下角的所述Mark点图组(1)的所述横线(11)；

S17.利用所述横向激光线组加工所述下部分(23)的所述第一刻线(24)。

8.根据权利要求6所述的SE结构图案的制作方法，其特征在于，所述步骤S2包括如下步骤：

S20.利用所述纵向激光线组加工位于所述副栅激光线图组(2)左侧的所述第四刻线(42)；

S21.利用所述纵向激光线组加工位于左侧的第一条所述第二刻线(31)；

S22.利用所述纵向激光线组加工左下角的所述Mark点图组(1)的所述纵线(12)；

S23.利用所述纵向激光线组加工左上角的所述Mark点图组(1)的所述纵线(12)；

S24.利用所述纵向激光线组加工所述主栅激光线图组(3)中间部分(22)的所述第二刻线(31)；

S25.利用所述纵向激光线组加工右上角的所述Mark点图组(1)的所述纵线(12)；

S26.利用所述纵向激光线组加工右下角的所述Mark点图组(1)的所述纵线(12)；

S27.利用所述纵向激光线组加工位于右侧的第一条所述第二刻线(31)；

S28.利用所述纵向激光线组加工位于所述主栅激光线图组(3)右侧的所述第四刻线(42)。