[发明专利]基板对组标记方法及其显示面板、显示装置有效

专利信息
申请号: 202011408247.9 申请日: 2020-12-03
公开(公告)号: CN112327534B 公开(公告)日: 2022-07-12
发明(设计)人: 廖辉华 申请(专利权)人: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: G02F1/1333 分类号: G02F1/1333
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 裴磊磊
地址: 518132 广东省深*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 标记 方法 及其 显示 面板 显示装置
【说明书】:

本申请公开了一种基板对组标记的制备方法及其显示面板、显示装置,该方法包括:提供具有BM标记的CF基板;将具有BM标记的CF基板作为基准玻璃基板;基准玻璃基板上包括多个BM标记;提供基于BPS工艺制备的CF基板;将基于BPS工艺制备的CF基板作为待标记CF基板;基于基准玻璃基板上的各个BM标记的BM标记位置,在待标记CF基板上分别制备一一对应各BM标记的各个LOC标记,使得各BM标记位置与各对应LOC标记的LOC标记位置一一对应重合,进而改善LOC产品单独制造时因玻璃精度差异导致的标记(mark)偏移,达到Cell制程正常且精准的对组需求,提升BPS产品的LOC标记精度,改善Cell制程的对组精度,减少了破片率,且提升了良率。

技术领域

本申请涉及显示技术领域,更具体地说,涉及一种基板对组标记方法及其显示面板、显示装置。

背景技术

BPS(Black Photo Spacer,黑色膜柱)技术是LCD(Liquid Crystal Display,液晶显示器)技术中一种把BM(Black Matrix,黑色矩阵)和PS(间隙控制)两道制程合成一道制程的技术,其工艺流程(flow)因无CF(Color Filter,彩色滤光片)BM制程,Cell PI(polyimide,聚酰亚胺)工艺或对组等标记(Mark)均需使用LOC机台(氧化铟锡激光切割机)制作,Cell制程通过读取TFT/CF mark,达到识别玻璃位置状况,实现对组。但LOC机台抓边通常采用机械抓边,制作的Mark位置相对偏移较大,在Cell制程的TFT(Thin FilmTransistor,薄膜晶体管)/CF板贴合对组时无法找到CF侧制作的全部mark,导致无法正常对组,盲对导致的TFT/CF板相对位置偏移引发后续制程发生破片,导致良率降低。

在实现过程中,发明人发现传统技术中至少存在如下问题:目前的BPS产品Cell制程时TFT/CF板贴合对组无法找到CF侧制作的全部mark,导致无法正常对组,盲对导致的TFT/CF板相对位置偏移引发后续制程发生破片,导致良率降低。

发明内容

基于此,有必要目前的BPS产品Cell制程时TFT/CF板贴合对组无法找到CF侧制作的全部mark,导致无法正常对组,盲对导致的TFT/CF板相对位置偏移引发后续制程发生破片,导致良率降低的问题,提供一种基板对组标记的制备方法及其显示面板、显示装置。

为了实现上述目的,本发明实施例提供了一种基板对组标记的制备方法,包括以下步骤:

提供具有BM标记的CF基板;将具有BM标记的CF基板作为基准玻璃基板;基准玻璃基板上包括多个BM标记;

提供基于BPS工艺制备的CF基板;将基于BPS工艺制备的CF基板作为待标记CF基板;

基于基准玻璃基板上的各个BM标记的BM标记位置,在待标记CF基板上分别制备一一对应各BM标记的各个LOC标记,使得各BM标记位置与各对应LOC标记的LOC标记位置一一对应重合。

在其中一个实施例中,在待标记CF基板上分别制备一一对应各BM标记的各个LOC标记的步骤包括:

采用LOC机台,在待标记CF基板上分别激光制备一一对应各BM标记的各个LOC标记。

在其中一个实施例中,在待标记CF基板上分别制备一一对应各BM标记的各个LOC标记的步骤之后包括:

若LOC标记位置与BM标记位置存在差异,补偿相应存在差异的LOC标记位置,直至各BM标记位置与各对应LOC标记的LOC标记位置一一对应重合。

在其中一个实施例中,BM标记的数量至少2个;LOC标记的数量至少2个。

在其中一个实施例中,基准玻璃基板的尺寸与待标记CF基板的尺寸相同。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市华星光电半导体显示技术有限公司,未经深圳市华星光电半导体显示技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011408247.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top