[发明专利]基板对组标记方法及其显示面板、显示装置有效
申请号: | 202011408247.9 | 申请日: | 2020-12-03 |
公开(公告)号: | CN112327534B | 公开(公告)日: | 2022-07-12 |
发明(设计)人: | 廖辉华 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/1333 | 分类号: | G02F1/1333 |
代理公司: | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人: | 裴磊磊 |
地址: | 518132 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 标记 方法 及其 显示 面板 显示装置 | ||
本申请公开了一种基板对组标记的制备方法及其显示面板、显示装置,该方法包括:提供具有BM标记的CF基板;将具有BM标记的CF基板作为基准玻璃基板;基准玻璃基板上包括多个BM标记;提供基于BPS工艺制备的CF基板;将基于BPS工艺制备的CF基板作为待标记CF基板;基于基准玻璃基板上的各个BM标记的BM标记位置,在待标记CF基板上分别制备一一对应各BM标记的各个LOC标记,使得各BM标记位置与各对应LOC标记的LOC标记位置一一对应重合,进而改善LOC产品单独制造时因玻璃精度差异导致的标记(mark)偏移,达到Cell制程正常且精准的对组需求,提升BPS产品的LOC标记精度,改善Cell制程的对组精度,减少了破片率,且提升了良率。
技术领域
本申请涉及显示技术领域,更具体地说,涉及一种基板对组标记方法及其显示面板、显示装置。
背景技术
BPS(Black Photo Spacer,黑色膜柱)技术是LCD(Liquid Crystal Display,液晶显示器)技术中一种把BM(Black Matrix,黑色矩阵)和PS(间隙控制)两道制程合成一道制程的技术,其工艺流程(flow)因无CF(Color Filter,彩色滤光片)BM制程,Cell PI(polyimide,聚酰亚胺)工艺或对组等标记(Mark)均需使用LOC机台(氧化铟锡激光切割机)制作,Cell制程通过读取TFT/CF mark,达到识别玻璃位置状况,实现对组。但LOC机台抓边通常采用机械抓边,制作的Mark位置相对偏移较大,在Cell制程的TFT(Thin FilmTransistor,薄膜晶体管)/CF板贴合对组时无法找到CF侧制作的全部mark,导致无法正常对组,盲对导致的TFT/CF板相对位置偏移引发后续制程发生破片,导致良率降低。
在实现过程中,发明人发现传统技术中至少存在如下问题:目前的BPS产品Cell制程时TFT/CF板贴合对组无法找到CF侧制作的全部mark,导致无法正常对组,盲对导致的TFT/CF板相对位置偏移引发后续制程发生破片,导致良率降低。
发明内容
基于此,有必要目前的BPS产品Cell制程时TFT/CF板贴合对组无法找到CF侧制作的全部mark,导致无法正常对组,盲对导致的TFT/CF板相对位置偏移引发后续制程发生破片,导致良率降低的问题,提供一种基板对组标记的制备方法及其显示面板、显示装置。
为了实现上述目的,本发明实施例提供了一种基板对组标记的制备方法,包括以下步骤:
提供具有BM标记的CF基板;将具有BM标记的CF基板作为基准玻璃基板;基准玻璃基板上包括多个BM标记;
提供基于BPS工艺制备的CF基板;将基于BPS工艺制备的CF基板作为待标记CF基板;
基于基准玻璃基板上的各个BM标记的BM标记位置,在待标记CF基板上分别制备一一对应各BM标记的各个LOC标记,使得各BM标记位置与各对应LOC标记的LOC标记位置一一对应重合。
在其中一个实施例中,在待标记CF基板上分别制备一一对应各BM标记的各个LOC标记的步骤包括:
采用LOC机台,在待标记CF基板上分别激光制备一一对应各BM标记的各个LOC标记。
在其中一个实施例中,在待标记CF基板上分别制备一一对应各BM标记的各个LOC标记的步骤之后包括:
若LOC标记位置与BM标记位置存在差异,补偿相应存在差异的LOC标记位置,直至各BM标记位置与各对应LOC标记的LOC标记位置一一对应重合。
在其中一个实施例中,BM标记的数量至少2个;LOC标记的数量至少2个。
在其中一个实施例中,基准玻璃基板的尺寸与待标记CF基板的尺寸相同。
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