[发明专利]一种CIS产品的微透镜形成方法

权利要求书

1.一种CIS产品的微透镜形成方法，其特征在于，所述方法包括：

提供一制作CIS产品的衬底，所述衬底上形成有金属层间介质层，所述金属层间介质层中设置有金属连线；

在所述金属层间介质层的上方形成第一层微透镜材料层；

通过光刻工艺在所述第一层微透镜材料层上方定义微透镜图案；

根据所述微透镜图案刻蚀所述第一层微透镜材料层，形成微透镜前置结构；其中，所述微透镜前置结构的剖面为梯形，所述梯形的底部比顶部宽；所述梯形的倾斜角的角度范围为75°至85°；

通过CVD工艺沉积第二层微透镜材料层，所述第二层微透镜材料层的厚度为8000埃至15000埃；所述微透镜前置结构上方的第二层微透镜材料层构成微透镜；

其中，微透镜材料为含碳氧化硅。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述梯形的底部宽度为0.5μm至0.8μm。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述在所述金属层间介质层的上方形成第一层微透镜材料层，包括：

通过CVD工艺在所述金属层间介质层的上方形成第一层微透镜材料层，第一层微透镜材料层的厚度为3000埃至6000埃。