[发明专利]缺陷扫描机台的自动监控系统及方法在审
申请号: | 202011421066.X | 申请日: | 2020-12-08 |
公开(公告)号: | CN112666311A | 公开(公告)日: | 2021-04-16 |
发明(设计)人: | 郭明;龚丹莉;邵雄 | 申请(专利权)人: | 上海华力集成电路制造有限公司 |
主分类号: | G01N33/00 | 分类号: | G01N33/00;G01R35/00 |
代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人: | 栾美洁 |
地址: | 201315 上海市浦东新区自*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 缺陷 扫描 机台 自动 监控 系统 方法 | ||
本发明公开了一种缺陷扫描机台的自动监控方法及系统,其用于监控在线缺陷扫描的所有缺陷扫描机台,其中:获取所有缺陷扫描机台的缺陷扫描信息;获取用户设置的查询条件,并根据用户设置的查询条件对所述缺陷扫描信息进行监控;筛选出满足所述查询条件的所述缺陷扫描信息对应的缺陷扫描机台;对筛选出的所述缺陷扫描信息进行统计汇总,确定对应的所述缺陷扫描机台的扫描率信息;根据所述扫描率信息判断所述缺陷扫描机台的运行状态,并根据各缺陷扫描机台的运行状态决定是否触发警报。本发明可以实现缺陷扫描机台的全覆盖监控,自动统计机台的扫描率,便于依据不同的扫描情况及时发现存在潜在风险问题的机台,对机台的扫描状况进行预警。
技术领域
本发明涉及半导体集成电路检测技术,具体涉及一种缺陷扫描机台的自动监控系统及方法。
背景技术
近年来,随着半导体集成电路的迅速发展与关键尺寸按比例缩小,其制造工艺也变得越来越复杂。目前,先进的集成电路制造工艺一般都包括几百步的工艺步骤,其中任何一个步骤出现的微小错误都会引起整个半导体集成电路芯片的问题,严重的还可能导致整个芯片的失效。特别是随着电路关键尺寸的不断缩小,其对工艺控制的要求越来越严格,所以在生产过程中为了及时地发现问题和解决问题,一般需要对产品进行在线缺陷检测。
目前,在现有技术中,在线缺陷检测主要是利用缺陷扫描机台对生产线上的芯片进行扫描,收集芯片上的缺陷位置并统计其数量,将芯片上的缺陷数量与该芯片所设定的控制标准值(例如,10颗缺陷)进行比较,如果芯片上缺陷的数量超过所设定的控制标准值,则认为芯片缺陷异常,如果芯片上缺陷的数量不超过所设定的控制标准值,则认为芯片缺陷正常。然而,在现有的在线缺陷检测过程中,无法监控缺陷扫描机台的工作是否正常,这就无法保证缺陷检测结果的准确性。
发明内容
本发明要解决的技术问题是提供一种缺陷扫描机台的自动监控系统及方法,可以解决现有技术无法对缺陷扫描机台进行监控的问题。
为了解决上述问题,本发明提供的缺陷扫描机台的自动监控系统,包括:
数据收集模块,其与所有的缺陷扫描机台进行通讯连接,用于获取各缺陷扫描机台的缺陷扫描信息;
设置模块,用于设定对所述数据收集模块收集的所述缺陷扫描信息进行监控的查询条件;
查询模块,其根据所述设置模块设定的所述查询条件对所述数据收集模块收集的所述缺陷扫描信息进行查询并筛选出满足所述查询条件的缺陷扫描机台;
分析模块,用于对所述查询模块筛选出的所述缺陷扫描机台对应的所述缺陷扫描信息进行处理;
判断模块,其根据所述分析模块的处理结果判断缺陷扫描机台的运行状态,并根据各缺陷扫描机台的运行状态决定是否触发警报。
其中,所述查询条件包括缺陷扫描机台的扫描率、缺陷扫描机台检测的产品及产品类型、产品批次、晶圆编号信息、扫描率发生连续异常的时间。
其中,所述缺陷扫描信息包括扫描产品批次、扫描产品类型、扫描对应的时间段、过货产品批次的上限及下限信息。
进一步的,所述系统还包括:
数据库,用于存储所述数据收集模块获取到的所述缺陷扫描信息。
进一步的,所述系统还包括:
数据处理模块,其对所述数据收集模块获取到的所述缺陷扫描信息进行数据清洗、数据分类、数据筛选预处理,并汇总部门对应的缺陷扫描机台对应的扫描率信息。
其中,所述分析模块对所述查询模块筛选出的所述缺陷扫描机台对应的所述缺陷扫描信息进行统计汇总,确定各缺陷扫描机台的扫描率信息。
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