[发明专利]基板支撑架及基板处理装置

说明书

本发明作为一种基板支撑架，包括：基座，形成有上面凹陷形成的圆盘形状的多个口袋槽部，以在上面沿着周围方向安装基板；轴，连接于基座下部以旋转驱动基座；及附属件，安装在口袋槽部，并且在上面安装基板；其中，基座包括：升降气体孔部，为了漂浮附属件而形成在口袋槽部中心部分，并且喷射通过形成在基座内部的第一升降气体流道流进的升降气体；及运动气体孔部，为了旋转驱动在口袋槽部漂浮的附属件而形成在口袋槽部边缘部分，并且喷射通过形成在基座内部的第一运动气体流道流进的运动气体；轴包括：第二升降气体流道，将从外部供应的升降气体传递至第一升降气体流道；及第二运动气体流道，将从外部供应的运动气体传递至第一运动气体流道。

技术领域

本发明涉及基板支撑架及基板处理装置，更详细地说涉及用于在基板上沉积薄膜的基板支撑架及基板处理装置。

背景技术

通常，为了制造半导体元件或者显示元件、太阳能电池，在具有真空环境的工艺腔室的基板处理装置中执行各种工艺。例如，在工艺腔室内装载基板，在基板上沉积薄膜或者蚀刻薄膜等的工艺。此时，基板被设置在工艺腔室内的基板支撑架支撑，通过与基板支撑架相互面对地设置在基板支撑架上部的花洒头可向基板喷射工艺气体。

此时，为了在基板生长均匀的薄膜，不仅旋转安装有基板的基座本身，还有必要使安装在基座的基板也进行旋转。即，在基板暴露在反应气体的期间进行自转，进而可引导薄膜实际的均匀生长。为此，基板处理装置为在口袋槽部安装可上面支撑基板的附属件(Satellite)，在口袋槽部上面形成以中心轴为基准的半圆方向的气体沟槽，通过喷射的气体的流动来漂浮并旋转附属件，进而可旋转基板。

发明内容

(要解决的问题)

然而，这种现有的基板支撑架及基板处理装置存在在工艺之后附属件停止时难以稳定地控制升降和旋转的问题。对于附属件在工艺结束之后即使停止给予旋转力的气体供应，附属件也会因为旋转的惯性力而持续旋转预定时间期间，在进行旋转的同时漂浮的附属件安装在底面，由于是在附属件未停止的状态下附属件安装到底面的，因此存在产生颗粒的问题。

本发明是用于解决如上所述的问题包括在内的各种问题的，目的在于提供一种基板支撑架及基板处理装置，在基板处理工艺中将安装在基板支撑架的口袋槽部的附属件的升降和旋转运动分开控制，以使附属件稳定漂浮及旋转，并且形成沟槽以使在附属件和口袋槽部的底面之间施加与附属件自转方向相反的方向的气体流动压力，进而在附属件停止时因为逆向旋转方向的加压而更加快速停止，因此可减少颗粒。然而，该课题是示例性的，不得由此限定本发明的范围。

(解决问题的手段)

根据本发明的一实施例提供一种基板支撑架。所述基板支撑架可包括：基座，形成有多个口袋槽部，所述口袋槽部为圆盘形状并且上面凹陷形成，以在上面沿着周围方向安装基板；轴，连接于所述基座下部以旋转驱动所述基座；及附属件，安装在所述口袋槽部，并且在上面安装所述基板；其中，所述基座包括：升降气体孔部，为了漂浮所述附属件而形成在所述口袋槽部中心部分，并且喷射通过形成在所述基座内部的第一升降气体流道流进的升降气体；及运动气体孔部，为了旋转驱动在所述口袋槽部漂浮的所述附属件而形成在所述口袋槽部边缘部分，并且喷射通过形成在所述基座内部的第一运动气体流道流进的运动气体；所述轴包括：第二升降气体流道，将从外部供应的所述升降气体传递至所述第一升降气体流道；及第二运动气体流道，将从外部供应的所述运动气体传递至所述第一运动气体流道。

根据本发明的一实施例，所述基板支撑架为，各个第一升降气体流道与分别形成在所述多个口袋槽部的所述升降气体孔部连接，所述各个第一升降气体流道与单一的所述第二升降气体流道连接。

根据本发明的一实施例，所述基板支撑架为，所述第二升降气体流道形成有多个，以分别与第一升降气体流道连接，所述第一升降气体流道与分别形成在所述多个口袋槽部的所述升降气体孔部连接。