[发明专利]一种真空溅射缝隙测量装置在审

专利信息
申请号: 202011428449.X 申请日: 2020-12-07
公开(公告)号: CN112504152A 公开(公告)日: 2021-03-16
发明(设计)人: 戴丽娜 申请(专利权)人: 苏州科亿嘉新技术开发有限公司
主分类号: G01B11/14 分类号: G01B11/14
代理公司: 苏州铭浩知识产权代理事务所(普通合伙) 32246 代理人: 季栋林
地址: 215000 江苏省苏州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 真空 溅射 缝隙 测量 装置
【说明书】:

发明公开了一种真空溅射缝隙测量装置,涉及真空溅射技术领域,为解决现有的测量工具不能够根据使用环境的变化灵活调节,导致测量的精准度较差的问题。所述工作台的一侧设置有活动板,所述工作台的上端设置有测量装置,所述测量装置上端的中间位置处安装有滑轨,所述滑轨的外部安装有调节外壳,且调节外壳与滑轨滑动连接,所述调节外壳靠近活动板的一端固定设置有位移机构,所述位移机构的一侧安装有红外测距传感器,所述测量装置的一侧固定设置有水平机构,所述工作台下端的四角处均设置有底座,所述测量装置一侧的上端设置有刻度标。

技术领域

本发明涉及真空溅射技术领域,具体为一种真空溅射缝隙测量装置。

背景技术

真空磁控溅射技术是指一种利用阴极表面配合的磁场形成电子陷阱,使在E×B的作用下电子紧贴阴极表面飘移,设置一个与靶面电场正交的磁场,溅射时产生的快电子在正交的电磁场中作近似摆线运动,增加了电子行程,提高了气体的离化率,同时高能量粒子与气体碰撞后失去能量,基体温度较低,在不耐温材料上可以完成镀膜,进行磁控溅射时,基体在工作台上端,设备腔体侧接有活动板,主要起到控制成膜形状,从而影响边缘成膜区域。成膜区域的调节主要是通过调节工作台与活动板之间的距离来实现的。

但是,现有的用于测量工作台与活动板之间距离的工具结构较为单一,不能够根据使用环境的变化灵活调节,导致测量的精准度较差,因此不满足现有的需求,对此我们提出了一种真空溅射缝隙测量装置。

发明内容

本发明的目的在于提供一种真空溅射缝隙测量装置,以解决上述背景技术中提出的测量工具不能够根据使用环境的变化灵活调节,导致测量的精准度较差的问题。

为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种真空溅射缝隙测量装置,包括工作台,所述工作台的一侧设置有活动板,所述工作台的上端设置有测量装置,所述测量装置上端的中间位置处安装有滑轨,所述滑轨的外部安装有调节外壳,且调节外壳与滑轨滑动连接,所述调节外壳靠近活动板的一端固定设置有位移机构,所述位移机构的一侧安装有红外测距传感器,所述测量装置的一侧固定设置有水平机构,所述工作台下端的四角处均设置有底座,所述测量装置一侧的上端设置有刻度标。

优选的,所述位移机构的内部安装有丝杠,且丝杠的一端与位移机构通过轴承转动连接,所述位移机构的一侧固定安装有伺服电机,且伺服电机的输出轴与丝杠的另一端通过联轴器传动连接,所述红外测距传感器的后端与丝杠通过螺纹配合。

优选的,所述红外测距传感器前端的两侧分别设置有红外信号发射器和接收二极管,所述测量装置上端的一侧安装有显示屏,且显示屏与红外测距传感器电性连接。

优选的,所述测量装置的内部设置有调节腔,所述调节腔的内部安装有齿轮,且齿轮的一端与测量装置通过转轴转动连接,所述调节外壳的内部设置有齿槽,且齿槽位于滑轨之间的上端,所述齿槽与齿轮啮合连接,所述测量装置一侧的中间位置处安装有调节轮,且调节轮的一端与齿轮的另一侧固定连接。

优选的,所述水平机构的内部设置有线绳,所述线绳的下端固定设置有指示标。

优选的,所述底座的内部均安装有活动块,且活动块的下端延伸至底座的下方,所述活动块与底座通过螺纹配合。

与现有技术相比,本发明的有益效果是:

1、本发明通过在测量装置上端的一侧安装有位移机构,对工作台与活动板之间距离进行测量时,通过开启红外测距传感器上的红外信号发射器,对活动板发射红外线光,在照射到活动板后形成一个反射的过程,反射到接收二极管后接收信号,然后利用CCD图像处理接收发射与接收的时间差的数据,经信号处理器处理后计算出物体的距离,并在显示屏上进行显示,同时启动伺服电机,伺服电机的输出轴带动丝杠进行转动,而红外测距传感器的后端与丝杠通过螺纹配合,那么在摩擦力的作用下将回转运动转化直线运动,从而令红外测距传感器在位移机构上进行水平移动,通过这种方式,能够在固定直线上对工作台与活动板之间距离进行测量,精准度得到提高。

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