[发明专利]一种CLBO晶体抛光工艺在审
| 申请号： | 202011429048.6 | 申请日： | 2020-12-09 |
| 公开（公告）号： | CN112454019A | 公开（公告）日： | 2021-03-09 |
| 发明（设计）人： | 袁英杰;陈晓洁;叶青;李雄;陈伟;张星;陈秋华 | 申请（专利权）人： | 福建福晶科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00;B24B41/04 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 350003 福建*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 clbo 晶体 抛光 工艺 | ||
【权利要求书】：
1.一种CLBO晶体抛光工艺，其特征在于：对CLBO采用无水抛光工艺，包括拉亮、粗抛、精抛三个工序，各工序使用的抛光辅料均不含水，解决传统含水抛光易吸潮开裂的技术难题。
2.根据权利要求1所述无水抛光工艺的拉亮工序，其特征在于：
所述拉亮具体在二轴机上使用蓖麻油和W1.0钻石粉混合液在聚氨酯盘拉亮去除砂眼并控制平行度。
3.根据权利要求1所述无水抛光工艺的粗抛工序，其特征在于：
所述粗抛具体在二轴机上使用蓖麻油在沥青盘上进行抛光，控制平面度、平行度、光洁度等加工指标。
4.根据权利要求1所述无水抛光工艺的精抛工序，其特征在于：
所述精抛具体在二轴机上使用无水抛光液OPW在黑色绒布盘上进一步抛光，优化光洁度。
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